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¿Tiene el ADN un grupo fosfato o ácido fosfórico?

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Estoy confundido acerca de la estructura del nucleótido de un ADN. He visto que tiene un grupo fosfato (PO₄³⁻) en algunos libros pero ácido fosfórico (H₃PO₄) en otros. ¿Cuál es la correcta?


El ion fosfato tiene una carga formal negativa y en una solución ácida aparece como una base conjugada de un ácido fosfórico. Ese es el peso del grupo fosfato que se encuentra en las células. La síntesis de nucleótidos puede ocurrir de novo o de formas de recuperación. De novo utilizar pirofosfato de fosforribosilo, al que se añaden moléculas simples como aminoácidos, tetrahidrofolato y dióxido de carbono.


Recuerde, hasta DOS puntos de "calidad de construcción" por ensayo.

una. (el código genético se basa en) conjuntos de tres nucleótidos / tripletes de bases llamados codones
B. las bases incluyen adenina, guanina, citosina y timina en ADN / adenina, guanina, citosina y uracilo en ARN (no acepte ATCG)
C. cada codón es el código de un aminoácido
D. algunos codones son codones (de inicio o) de parada
mi. El ADN se transcribe en ARNm mediante emparejamiento de pares de bases / emparejamiento de bases complementarias
F. El ARNm se traduce en una secuencia de aminoácidos / polipéptido.
gramo. cada gen codifica un polipéptido
h. Los polipéptidos se pueden unir / modificar para formar proteínas.

Recuerde, hasta DOS puntos de "calidad de construcción" por ensayo.

una. las proteínas del canal permiten la difusión / ósmosis / transporte pasivo
B. Las moléculas grandes / polares no pueden atravesar la membrana (hidrófoba) libremente.
C. La difusión facilitada implica mover moléculas a través de proteínas en su gradiente de concentración sin requerir ATP.
D. las acuaporinas (proteínas integrales específicas de la membrana) facilitan el movimiento de las moléculas de agua / ósmosis
mi. algunas proteínas (para la difusión facilitada) son específicas de moléculas / iones
F. El transporte activo implica mover moléculas a través de proteínas en contra de su gradiente de concentración / que requiere ATP.
gramo. (algunas) proteínas en la membrana son bombas / bombas realizan transporte activo / bomba de sodio y potasio

Recuerde, hasta DOS puntos de "calidad de construcción" por ensayo.

una. ATP es una forma de moneda energética / disponible inmediatamente para su uso
B. El ATP se genera en las células mediante la respiración celular (a partir de compuestos orgánicos).
C. aeróbico (respiración celular) requiere oxígeno
D. anaeróbico (respiración celular) no requiere oxígeno
mi. la glucólisis descompone la glucosa en piruvato
F. la glucólisis ocurre en el citoplasma
gramo. (por glucólisis) se libera una pequeña cantidad de ATP
h. El ADP se convierte en ATP con la adición de un grupo fosfato / ácido fosfórico / aceptar como ecuación química
I. en las mitocondrias / respiración aeróbica produce una gran cantidad de ATP / 38 moles (para la célula, por molécula de glucosa)
j. Se requiere respiración de oxígeno / aeróbica para la producción mitocondrial de ATP
k. en las mitocondrias / respiración aeróbica, el piruvato se descompone en dióxido de carbono y agua


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Recuerde, hasta DOS calificaciones de “calidad de construcción” por ensayo.

una. (el código genético se basa en) conjuntos de tres nucleótidos / tripletes de bases llamados codones
B. las bases incluyen adenina, guanina, citosina y timina en el ADN / adenina, guanina, citosina y uracilo en el ARN (no acepte ATCG)
C. cada codón es el código de un aminoácido
D. algunos codones son codones (de inicio o) de parada
mi. El ADN se transcribe en ARNm mediante emparejamiento de pares de bases / emparejamiento de bases complementarias
F. El ARNm se traduce en una secuencia de aminoácidos / polipéptido.
gramo. cada gen codifica un polipéptido
h. Los polipéptidos se pueden unir / modificar para formar proteínas.

Recuerde, hasta DOS calificaciones de “calidad de construcción” por ensayo.

una. las proteínas del canal permiten la difusión / ósmosis / transporte pasivo
B. Las moléculas grandes / polares no pueden atravesar la membrana (hidrófoba) libremente.
C. La difusión facilitada implica mover moléculas a través de proteínas en su gradiente de concentración sin requerir ATP.
D. las acuaporinas (proteínas integrales específicas de la membrana) facilitan el movimiento de las moléculas de agua / ósmosis
mi. algunas proteínas (para la difusión facilitada) son específicas de moléculas / iones
F. El transporte activo implica mover moléculas a través de proteínas en contra de su gradiente de concentración / que requiere ATP.
gramo. (algunas) proteínas en la membrana son bombas / las bombas realizan transporte activo / bomba de sodio y potasio

Recuerde, hasta DOS calificaciones de “calidad de construcción” por ensayo.

una. ATP es una forma de moneda energética / disponible inmediatamente para su uso
B. El ATP se genera en las células mediante la respiración celular (a partir de compuestos orgánicos).
C. aeróbico (respiración celular) requiere oxígeno
D. anaeróbico (respiración celular) no requiere oxígeno
mi. la glucólisis descompone la glucosa en piruvato
F. la glucólisis ocurre en el citoplasma
gramo. (por glucólisis) se libera una pequeña cantidad de ATP
h. El ADP se convierte en ATP con la adición de un grupo fosfato / ácido fosfórico / aceptar como ecuación química
I. en las mitocondrias / respiración aeróbica produce una gran cantidad de ATP / 38 moles (para la célula, por molécula de glucosa)
j. Se requiere respiración de oxígeno / aeróbica para la producción mitocondrial de ATP
k. en las mitocondrias / respiración aeróbica, el piruvato se descompone en dióxido de carbono y agua


(ii) enlace covalente / fosfodiéster

El ADN tiene desoxirribosa, el ARN tiene ribosa

El ADN tiene base T / timina, el ARN tiene base U / uracilo

No acepte hebras simples o dobles como estructura química.

El ARNt se une a un aminoácido (específico)

El ARNt (con aminoácidos) se mueve hacia el ribosoma.

el anticodón del ARNt se une al codón del ARNm

Fecha Mayo de 2017 Marcas disponibles 3 Código de referencia 17M.2.SL.TZ1.5
Nivel Nivel estandar Papel Documento 2 Zona horaria Zona horaria 1
Término de comando Esquema Número de pregunta 5 Adaptado de N / A

CH103 & # 8211 Capítulo 8: Las principales macromoléculas

Dentro de todas las formas de vida de la Tierra, desde la bacteria más pequeña hasta el cachalote gigante, existen cuatro clases principales de macromoléculas orgánicas que siempre se encuentran y son esenciales para la vida. Estos son los carbohidratos, lípidos (o grasas), proteínas y ácidos nucleicos. Todas las clases de macromoléculas principales son similares, en el sentido de que son grandes polímeros que se ensamblan a partir de pequeñas subunidades de monómeros repetidos. En el Capítulo 6, se le presentó a los polímeros de la vida y sus estructuras de bloques de construcción, como se muestra a continuación en la Figura 11.1. Recuerde que las unidades de monómero para construir los ácidos nucleicos, ADN y ARN, son las bases de nucleótidos, mientras que los monómeros de las proteínas son los aminoácidos, los carbohidratos son residuos de azúcar y los lípidos son los ácidos grasos o grupos acetilo.

Este capítulo se centrará en una introducción a la estructura y función de estas macromoléculas. Descubrirá que las macromoléculas principales se mantienen unidas por los mismos enlaces químicos que ha estado explorando en los capítulos 9 y 10, y dependen en gran medida de la síntesis de deshidratación para su formación y de la hidrólisis para su descomposición.

Figura 11.1: Los componentes moleculares de la vida están hechos de compuestos orgánicos.

Video tutorial divertido que presenta las principales macromoléculas

11.2 Estructura y función de las proteínas

Aminoácidos y estructura primaria de proteínas

Los componentes principales de las proteínas se denominan alfa aminoácidos. Como su nombre lo indica, contienen un grupo funcional ácido carboxílico y un grupo funcional amina. La designación alfa se utiliza para indicar que estos dos grupos funcionales están separados entre sí por un grupo de carbono. Además de la amina y el ácido carboxílico, el carbono alfa también está unido a un hidrógeno y a un grupo adicional que puede variar en tamaño y longitud. En el diagrama siguiente, este grupo se designa como grupo R. Dentro de los organismos vivos hay 20 aminoácidos que se utilizan como bloques de construcción de proteínas. Se diferencian entre sí solo en la posición del grupo R. La estructura básica de un aminoácido se muestra a continuación:

Figura 11.2 Estructura general de un alfa-aminoácido

Dentro de los sistemas celulares, las proteínas están unidas por un sistema complejo de ARN y proteínas llamado ribosoma. Por lo tanto, a medida que los aminoácidos se unen para formar una proteína específica, se colocan dentro de un orden muy específico dictado por la información genética contenida en el ARN. Este orden específico de aminoácidos se conoce como proteína & # 8217s secuencia primaria. La secuencia primaria de una proteína se enlaza mediante síntesis por deshidratación que combina el ácido carboxílico del aminoácido corriente arriba con el grupo funcional amina del aminoácido corriente abajo para formar un enlace amida. Dentro de las estructuras de proteínas, este enlace amida se conoce como enlace peptídico. Los siguientes aminoácidos se añadirán al terminal ácido carboxílico de la proteína en crecimiento. Así, las proteínas siempre se sintetizan de manera direccional comenzando con la amina y terminando con la cola de ácido carboxílico. Siempre se agregan nuevos aminoácidos a la cola del ácido carboxílico, nunca a la amina del primer aminoácido de la cadena. Además, debido a que los grupos R pueden ser bastante voluminosos, generalmente se alternan a ambos lados de la cadena de proteínas en crecimiento en el trans conformación. los cis sólo se prefiere la conformación con un aminoácido específico conocido como prolina.

Figura 11.3 Formación del enlace peptídico. La adición de dos aminoácidos para formar un péptido requiere una síntesis por deshidratación.

Proteínas son moléculas muy grandes que contienen muchos residuos de aminoácidos unidos entre sí en un orden muy específico. Las proteínas varían en tamaño desde 50 aminoácidos de longitud hasta la proteína más grande conocida que contiene 33 423 aminoácidos. Las macromoléculas con menos de 50 aminoácidos se conocen como péptidos.


Figura 11.4 Los péptidos y las proteínas son macromoléculas construidas a partir de largas cadenas de aminoácidos unidos mediante enlaces amida.

La identidad y función de un péptido o una proteína está determinada por la secuencia primaria de aminoácidos dentro de su estructura. Hay un total de 20 alfa aminoácidos que se incorporan comúnmente a las estructuras de las proteínas (Figura 11.5).

Figura 11.5 Estructura de los 20 alfa-aminoácidos utilizados en la síntesis de proteínas.

Debido a la gran cantidad de aminoácidos que se pueden incorporar en cada posición dentro de la proteína, existen miles de millones de diferentes combinaciones de proteínas posibles que se pueden usar para crear nuevas estructuras de proteínas. Por ejemplo, piense en un tripéptido elaborado a partir de este conjunto de aminoácidos. En cada puesto hay 20 opciones diferentes que se pueden incorporar. Por lo tanto, el número total de tripéptidos resultantes posibles sería 20 X 20 X 20 o 20 3, lo que equivale a 8.000 opciones de tripéptidos diferentes. Ahora piense en cuántas opciones habría para un péptido pequeño que contenga 40 aminoácidos. ¡Habría 20 40 opciones, o 1,09 x 10 52 opciones de secuencia potenciales alucinantes! Cada una de estas opciones variaría en la forma general de la proteína, ya que la naturaleza de las cadenas laterales de aminoácidos ayuda a determinar la interacción de la proteína con los otros residuos en la proteína misma y con su entorno circundante. Por lo tanto, es útil aprender un poco sobre las características generales de las cadenas laterales de aminoácidos.

Las diferentes cadenas laterales de aminoácidos se pueden agrupar en diferentes clases según sus propiedades químicas (Figura 11.5). Por ejemplo, algunas cadenas laterales de aminoácidos solo contienen carbono e hidrógeno y, por lo tanto, son muy apolares e hidrófobas. Otros contienen grupos funcionales electronegativos con oxígeno o nitrógeno y pueden formar enlaces de hidrógeno formando interacciones más polares. Otros contienen grupos funcionales de ácido carboxílico y pueden actuar como ácidos o contienen aminas y pueden actuar como bases, formando moléculas completamente cargadas. El carácter de los aminoácidos en toda la proteína ayuda a que la proteína se pliegue y forme su estructura tridimensional. Es esta forma tridimensional la que se requiere para la actividad funcional de la proteína (es decir, forma de la proteína = función de la proteína). Para las proteínas que se encuentran dentro de los ambientes acuosos de la célula, los aminoácidos hidrófobos a menudo se encontrarán en el interior de la estructura de la proteína, mientras que los aminoácidos hidrófilos amantes del agua estarán en la superficie donde pueden formar puentes de hidrógeno e interactuar con las moléculas de agua. La prolina es única porque tiene el único grupo R que forma una estructura cíclica con el grupo funcional amina en la cadena principal. Esta ciclación es lo que hace que la prolina adopte el cis conformación en lugar de la trans conformación dentro de la columna vertebral. Este cambio de estructura a menudo significará que las prolinas son posiciones en las que se producen curvas o cambios de dirección dentro de la proteína. La metionina es única, ya que sirve como aminoácido inicial para casi todas las miles de proteínas conocidas en la naturaleza. Las cisteínas contienen grupos funcionales tiol y, por tanto, pueden oxidarse con otros residuos de cisteína para formar enlaces disulfuro dentro de la estructura de la proteína (figura 11.6). Los puentes disulfuro agregan estabilidad adicional a la estructura tridimensional y, a menudo, son necesarios para el correcto plegamiento y función de las proteínas (Figura 11.6).

Figura 11.6 Enlaces disulfuro. Los enlaces disulfuro se forman entre dos residuos de cisteína dentro de una secuencia de péptidos o proteínas o entre diferentes cadenas de péptidos o proteínas. En el ejemplo anterior se representan las dos cadenas de péptidos que forman la hormona insulina. Se requieren puentes disulfuro entre las dos cadenas para que esta hormona funcione correctamente para regular los niveles de glucosa en sangre.

Forma y función de las proteínas

La estructura primaria de cada proteína conduce al patrón de plegado único que es característico de esa proteína específica. Recuerde que este es el orden lineal de los aminoácidos, ya que están unidos en la cadena de proteínas (Figura 11.7).

Figura 11.7 La estructura de la proteína primaria es la secuencia lineal de aminoácidos.

(crédito: modificación del trabajo del Instituto Nacional de Investigación del Genoma Humano)

Dentro de cada proteína, pequeñas regiones pueden adoptar patrones de plegamiento específicos. Estos motivos o patrones específicos se denominan estructura secundaria. Las características estructurales secundarias comunes incluyen la hélice alfa y la hoja plegada beta (Figura 11.8). Dentro de estas estructuras, las interacciones intramoleculares, especialmente los enlaces de hidrógeno entre los grupos funcionales amina y carbonilo del esqueleto, son fundamentales para mantener la forma tridimensional. Cada giro de una hélice alfa tiene 3,6 residuos de aminoácidos. Los grupos R (los grupos variantes) del polipéptido sobresalen del α-cadena de hélice. En el βHoja plegada, los "pliegues" están formados por enlaces de hidrógeno entre átomos en la columna vertebral de la cadena polipeptídica. Los grupos R están unidos a los carbones y se extienden por encima y por debajo de los pliegues del pliegue. Los segmentos plegados se alinean paralelos o antiparalelos entre sí, y se forman enlaces de hidrógeno entre el átomo de nitrógeno parcialmente positivo en el grupo amino y el átomo de oxígeno parcialmente negativo en el grupo carbonilo de la estructura del péptido. los α-hélice y βLas estructuras de láminas plegadas se encuentran en la mayoría de las proteínas y desempeñan un papel estructural importante.

Figura 11.8 Características estructurales secundarias en la estructura de la proteína. La hélice alfa y la hoja plegada beta son motivos estructurales comunes que se encuentran en la mayoría de las proteínas. Se mantienen unidos por enlaces de hidrógeno entre la amina y el oxígeno del carbonilo dentro de la cadena principal de aminoácidos.

Una mirada más cercana: estructura de proteína secundaria en seda

Había muchas rutas comerciales en todo el mundo antiguo. La más transitada y culturalmente significativa de todas se llamó la Ruta de la Seda. La Ruta de la Seda se extendía desde la ciudad china de Chang & # 8217an a través de la India hasta el Mediterráneo y Egipto. La razón por la que la Ruta de la Seda era tan importante desde el punto de vista cultural se debía a la gran distancia que cubría. Esencialmente, todo el mundo antiguo estaba conectado por una ruta comercial.

Figura 11. 9 Gusanos de seda

En la ruta se intercambiaron muchas cosas, incluida la seda, las especias, los esclavos, las ideas y la pólvora. La ruta de la seda tuvo un efecto asombroso en la creación de muchas sociedades. Fue capaz de traer riqueza económica a áreas a lo largo de la ruta, y nuevas ideas viajaron a lo largo e influyeron en muchas cosas, incluido el arte. Un ejemplo de esto es el arte budista que se encontró en la India. La pintura tiene muchas influencias occidentales que se pueden identificar en ella, como la musculatura realista de las personas que se pintan. Además, el comercio de pólvora a Occidente ayudó a influir en la guerra y, a su vez, dio forma al mundo moderno. Sin embargo, la verdadera razón por la que se inició Silk Road fue por el producto del que toma su nombre: Silk.

Figura 11.10 Ruta terrestre en rojo, ruta marítima en azul

La seda fue apreciada por los reyes y reinas de la sociedad europea y del Medio Oriente. La Seda demostró que los gobernantes tenían poder y riqueza porque la seda no era fácil de conseguir y, por lo tanto, definitivamente no era barata. La seda se desarrolló por primera vez en China y se elabora recolectando la seda de los capullos del gusano de seda de la morera. La seda en sí se llama fibra de proteína natural porque está compuesta por un patrón de aminoácidos en una estructura de proteína secundaria. La estructura secundaria de la seda es la hoja beta plisada. La estructura primaria de la seda contiene los aminoácidos de glicina, alanina, serina, en un patrón repetitivo específico. Estos tres aminoácidos constituyen el 90% de la proteína de la seda. El último 10% está compuesto por los aminoácidos ácido glutámico, valina y ácido aspártico. Estos aminoácidos se utilizan como cadenas laterales y afectan aspectos como la elasticidad y la fuerza. también varían entre varias especies. La hoja de seda con pliegues beta está conectada por enlaces de hidrógeno. Los enlaces de hidrógeno en la seda forman láminas beta plisadas en lugar de hélices alfa debido al lugar donde se producen los enlaces. Los enlaces de hidrógeno van desde los hidrógenos de amida en una cadena de proteína hasta el correspondiente oxígeno carbonilo a través del camino en la otra cadena de proteína. Esto contrasta con la hélice alfa porque en esa estructura los enlaces van de la amida al oxígeno del carbonilo, pero no son adyacentes. El oxígeno del carbonilo está en el aminoácido que está cuatro residuos antes.

Figura 11.11 Hojas plisadas beta paralelas y antiparalelas

La seda es un gran ejemplo de la estructura de la hoja plisada beta. La formación de esta estructura secundaria en la proteína de la seda le permite tener una resistencia a la tracción muy fuerte. La seda también ayudó a formar una de las rutas comerciales más importantes de la historia, lo que permitió el intercambio de ideas, productos y culturas al tiempo que avanzaba en las sociedades involucradas.Silk contiene arreglos paralelos y antiparalelos de hojas beta. Sin embargo, a diferencia de la hélice α, las cadenas laterales se aprietan bastante juntas en una disposición de hoja plisada. En consecuencia, las cadenas laterales muy voluminosas hacen que la estructura sea inestable. Esto explica por qué la seda está compuesta casi en su totalidad por glicina, alanina y serina, los tres aminoácidos con las cadenas laterales más pequeñas. Algunas especies de gusanos de seda producen cantidades variables de cadenas laterales voluminosas, pero estas sedas no son tan apreciadas como el gusano de seda de morera (que no tiene cadenas laterales de aminoácidos voluminosas) porque la seda con cadenas laterales voluminosas es más débil y no tiene tanto Fuerza de Tensión.

La forma tridimensional completa de la proteína completa (o la suma de todas las estructuras secundarias) se conoce como estructura terciaria de la proteína y es una característica única y definitoria de esa proteína (Figura 11.12). Principalmente, las interacciones entre los grupos R crean la compleja estructura terciaria tridimensional de una proteína. La naturaleza de los grupos R que se encuentran en los aminoácidos involucrados puede contrarrestar la formación de los enlaces de hidrógeno descritos para las estructuras secundarias estándar. Por ejemplo, los grupos R con cargas similares se repelen entre sí y los que tienen cargas diferentes se atraen entre sí (enlaces iónicos). Cuando tiene lugar el plegamiento de la proteína, los grupos R hidrófobos de los aminoácidos apolares se encuentran en el interior de la proteína, mientras que los grupos R hidrófilos se encuentran en el exterior. Los primeros tipos de interacciones también se conocen como interacciones hidrofóbicas. La interacción entre las cadenas laterales de cisteína forma enlaces disulfuro en presencia de oxígeno, el único enlace covalente que se forma durante el plegamiento de proteínas.

Figura 11.12 Estructura de la proteína terciaria. La estructura terciaria de las proteínas está determinada por una variedad de interacciones químicas. Estos incluyen interacciones hidrofóbicas, enlaces iónicos, enlaces de hidrógeno y enlaces disulfuro.

Todas estas interacciones, débiles y fuertes, determinan la forma tridimensional final de la proteína. Cuando una proteína pierde su forma tridimensional, normalmente deja de ser funcional.

En la naturaleza, algunas proteínas se forman a partir de varios polipéptidos, también conocidos como subunidades, y la interacción de estas subunidades forma la Estructura cuaternaria. Las interacciones débiles entre las subunidades ayudan a estabilizar la estructura general. Por ejemplo, la insulina (una proteína globular) tiene una combinación de enlaces de hidrógeno y enlaces disulfuro que hacen que se agrupe en su mayoría en forma de bola. La insulina comienza como un único polipéptido y pierde algunas secuencias internas durante el procesamiento celular que forman dos cadenas unidas por enlaces disulfuro, como se muestra en la figura 11.6. Luego, tres de estas estructuras se agrupan para formar un hexámero inactivo (Figura 11.13). La forma hexámera de la insulina es una forma en que el cuerpo almacena la insulina en una conformación estable e inactiva para que esté disponible para su liberación y reactivación en forma monomérica.

Figura 11.13 La hormona insulina es un buen ejemplo de estructura cuaternaria. La insulina se produce y se almacena en el cuerpo como un hexámero (una unidad de seis moléculas de insulina), mientras que la forma activa es el monómero. El hexámero es una forma inactiva con estabilidad a largo plazo, que sirve como una forma de mantener protegida la insulina altamente reactiva, pero fácilmente disponible.

Los cuatro niveles de estructura proteica (primario, secundario, terciario y cuaternario) se resumen en la figura 11.14.

Figura 11.14 En estas ilustraciones se pueden observar los cuatro niveles de estructura proteica. (crédito: modificación del trabajo del Instituto Nacional de Investigación del Genoma Humano)

Hidrólisis es la ruptura de la secuencia de la proteína primaria mediante la adición de agua para reformar las unidades monoméricas de aminoácidos individuales.

Figura 11.15 Hidrólisis de proteínas. En la reacción de hidrólisis, se añade agua a través del enlace amida incorporando el grupo -OH con el carbono carbonilo y reformando el ácido carboxílico. El hidrógeno del agua reforma la amina.

Si la proteína está sujeta a cambios de temperatura, pH o exposición a sustancias químicas, la estructura de la proteína puede desplegarse y perder su forma sin romper la secuencia primaria en lo que se conoce como desnaturalización(Figura 11.16). Desnaturalizaciónes diferente de la hidrólisis, en que la estructura primaria de la proteína no se ve afectada. Desnaturalización a menudo es reversible porque la estructura primaria del polipéptido se conserva en el proceso si se elimina el agente desnaturalizante, lo que permite que la proteína se repliegue y reanude su función. A veces, sin embargo, la desnaturalización es irreversible y conduce a una pérdida permanente de la función. Un ejemplo de desnaturalización irreversible de proteínas es cuando se fríe un huevo. La proteína de albúmina en la clara de huevo líquida se desnaturaliza cuando se coloca en una sartén caliente. Tenga en cuenta que no todas las proteínas se desnaturalizan a altas temperaturas, por ejemplo, las bacterias que sobreviven en aguas termales tienen proteínas que funcionan a temperaturas cercanas a la ebullición. El estómago también es muy ácido, tiene un pH bajo y desnaturaliza las proteínas como parte del proceso de digestión; sin embargo, las enzimas digestivas del estómago retienen su actividad en estas condiciones.

Figura 11.16 Desnaturalización de proteínas. La Figura (1) muestra la proteína intacta correctamente plegada. El paso (2) aplica calor al sistema que está por encima del umbral de mantenimiento de las interacciones proteicas intramoleculares. El paso (3) muestra la proteína sin plegar o desnaturalizada. Las regiones coloreadas en la proteína desnaturalizada corresponden a las regiones coloreadas de la proteína plegada de forma nativa que se muestra en (1).

El plegamiento de proteínas es fundamental para su función. Originalmente se pensó que las proteínas mismas eran responsables del proceso de plegado. Solo recientemente se descubrió que a menudo reciben ayuda en el proceso de plegado de los auxiliares de proteínas conocidos como chaperones (o chaperoninas) que se asocian con la proteína diana durante el proceso de plegado. Actúan previniendo la agregación de polipéptidos que componen la estructura completa de la proteína y se disocian de la proteína una vez que se pliega la proteína diana.

Las proteínas están involucradas en muchas funciones celulares. Las proteínas pueden actuar como enzimas que mejoran la velocidad de las reacciones químicas. De hecho, el 99% de las reacciones enzimáticas dentro de una célula están mediadas por proteínas. Por lo tanto, son parte integral de los procesos de construcción o descomposición de componentes celulares. Las proteínas también pueden actuar como andamiaje estructural dentro de la célula, ayudando a mantener la forma celular. Las proteínas también pueden participar en la señalización y comunicación celular, así como en el transporte de moléculas de un lugar a otro. En circunstancias extremas, como la inanición, las proteínas también se pueden utilizar como fuente de energía dentro de la célula.


Discusión

Tres genes dentro de la región crítica genómica de 2,1 Mb en 11p11.2 son los principales determinantes de la PSS, caracterizada por múltiples exostosis, foramen biparietal, DI y anomalías craneofaciales. En 1996, EXT2 estuvo implicado como la causa de múltiples exostosis cuando un 4-bp EXT2 En todos los miembros afectados de una familia con múltiples exostosis se identificó una deleción que causaba un desplazamiento del marco de lectura [1]. En 2000, ALX4 fue implicado como la causa de foramen biparietal en PSS con la identificación de ALX4 mutaciones puntuales: una deleción de un nucleótido y una variante sin sentido en dos familias no relacionadas afectadas con foramen biparietal [3].

Aunque informamos que PHF21A se asoció con ID y anomalías craneofaciales por la clonación posicional de dos pacientes con translocaciones equilibradas en 2012 [4], no se había informado de mutaciones puntuales que afecten a este gen para confirmar su impacto deletéreo hasta que se informó muy recientemente de tres pacientes con mutaciones truncantes de novo [ 8], mientras se preparaba este manuscrito. Teniendo en cuenta que uno de los tres pacientes reportados tiene TEA [8], también identificamos a otros tres pacientes con TEA (pacientes 1, 5 y 7), lo que sugiere además que PHF21A es un gen novedoso de TEA. Los pacientes 1 y 3 tienen mutaciones muy similares, que difieren solo en un aminoácido, pero solo el paciente 1 tiene TEA. Curiosamente, la obesidad puede ser otra característica causada por PHF21A mutación, observada en tres de nuestros pacientes (pacientes 1, 3 y 5 Fig.1e, Tabla 1), así como en una mujer con una translocación equilibrada y PHF21A truncamiento [4] (Tabla 1).

Los fenotipos comunes que se observan en los siete pacientes informados aquí son retraso en el desarrollo, DI, retraso en el lenguaje y deterioro de las habilidades motoras. Se observaron convulsiones en cuatro pacientes. La existencia de nuevos genes en 11p11.2 para hipotonía [6] y problemas neuroconductuales [7] se sugirió anteriormente. La hipotonía en tres pacientes y los problemas neuroconductuales en seis pacientes sugieren aquí que PHF21A es un gen que contribuye a estas características clínicas en PSS.

La cola aberrante C-terminal adicional en las proteínas alargadas de los pacientes 1, 3 y 7 podría actuar de forma dominante negativamente por un mecanismo de ganancia de función, lo que podría resultar en un fenotipo discrepante del causado por la haploinsuficiencia. Sin embargo, no se observaron diferencias fenotípicas significativas en estos pacientes en comparación con el resto de la cohorte (tabla 1).

También encontramos un nuevo dominio de región intrínsecamente desordenada (IDR) en el extremo C-terminal de PHF21A (aa 639–680 en NP_001095271.1). Si las proteínas se producen a partir de variantes sin sentido o de desplazamiento de marco en cualquiera de nuestros pacientes, esta región se eliminaría o truncaría (Fig.3) y, por lo tanto, podría tener una función importante, aunque se necesitarían pacientes adicionales y caracterización funcional para una confirmación adicional. Los dominios IDR proporcionan flexibilidad a la proteína y facilitan diferentes requisitos conformacionales para la unión de enzimas modificadoras, así como sus receptores [19]. Estos IDR son particularmente prominentes dentro de las proteínas involucradas en las funciones de señalización celular, transcripción y remodelación de la cromatina [20, 21]. A primera vista, las variantes de sentido erróneo en IDR (639–680 aa) en el extremo C-terminal de PHF21A no parecen restringidas en gnomAD (Genome Aggregation Database, https://gnomad.broadinstitute.org/). Sin embargo, entre las 32 variantes heterocigóticas de sentido erróneo en el IDR enumeradas en gnomAD, solo 4 variantes raras (p.Glu678Ala, p.Ser668Arg, p.Ser663Tyr y p.Thr650Asn), cada una de las cuales se encuentra en 1 o 2 individuos entre más de 100,000 personas, se pronostica como probable o posiblemente dañino. Estos hallazgos plantean la posibilidad de que entre el trasfondo de variantes neutrales sin sentido, algunas variantes raras sin sentido en esta región podrían ser patógenas. Alternativamente, la IDR de PHF21A podría ser intolerante al truncamiento, pero tolerante a las variantes de sentido erróneo.

La expresión profunda en el cerebro fetal humano enfatiza el papel de PHF21A en el desarrollo humano temprano, lo cual es consistente con características en nuestros pacientes, como retraso en el desarrollo, TEA, TDAH y epilepsia observada a una edad temprana (Tabla 1).

PHF21A codifica una proteína que se une específicamente a H3K4 no metilado como parte de un complejo de histona desmetilasa que participa en la supresión de la expresión génica neuronal. Las enzimas modificadoras de histonas como las histonas metiltransferasas [22, 23] y las demetilasas [24, 25, 26] se han encontrado previamente mutadas en la ID sindrómica. PHF21A no es un escritor ni un borrador, sino que se une específicamente a la histona no metilada H3K4me0 como lector en un complejo multiproteico KDM1A [27]. Esto sugiere por primera vez que una proteína no catalítica dirigida a un sitio de histona no metilada es fundamental para la función cognitiva normal y el desarrollo craneofacial.

Entre los otros componentes del complejo desmetilasa KDM1A, una translocación equilibrada que interrumpe ZMYM3 [28] y una mutación familiar sin sentido de ZMYM3 [29] se han informado. Más importante aún, tres niños con tres mutaciones heterocigóticas sin sentido diferentes de novo en KDM1A Se ha informado que comparten anomalías craneofaciales, retraso en el desarrollo e hipotonía [30]. Además, se ha informado que un paciente con síndrome de KGB y síndrome de Kabuki tiene una mutación sin sentido de novo de KDM1A, junto con una deleción de novo de 3 pb de otro gen, ANKRD11 [31]. En conjunto, se han identificado mutaciones de cuatro componentes en el complejo demetilasa KDM1A en pacientes con DI sindrómico. Los paralelos entre KDM1A, PHF21A, ZMYM2 [32], y ZMYM3 sugieren que otros loci genéticos subyacentes a la ID pueden codificar otras proteínas que participan en complejos de proteínas que involucran a KDM1A o potencialmente a otras demetilasas.

Limitaciones

Se requieren más estudios funcionales sobre el dominio AT Hook y la IDR de PHF21A con respecto a su función en el proceso de desarrollo neurológico como lector de histona no metilada H3K4me0. Es necesario encontrar mutaciones sin sentido o truncado en IDR en pacientes humanos para reforzar su papel funcional. Dado que la sangre de los pacientes no estaba disponible mientras se preparaba este manuscrito, no pudimos demostrar que las variantes truncadas sin la IDR se expresan, lo que excluye cualquier conclusión definitiva sobre el papel de esta región.


Resultados

Diseño del estudio

Para estudiar el transcriptoma de los ganglios estrellados de rata, obtuvimos ARN de cuatro SHR machos de 16 semanas de edad con hipertensión y cuatro ratas de control Wistar machos de la misma edad. Los extractos de ARN de estos ganglios contenían

8,5 ng / μl de ARN. La integridad del ARN (RIN) se validó con un bioanalizador Agilent 2100. Para garantizar un ARN de buena calidad, solo usamos muestras con RIN & gt8.5 para la secuenciación. Utilizando la plataforma de secuenciación HiSeq 4000, generamos

345 millones de lecturas de datos de RNAseq de extremos emparejados de 75 pb, es decir,

22 millones de lecturas por muestra. Realizamos un análisis comparativo del transcriptoma de los ganglios estrellados entre los fenotipos Wistar y SHR. El número de animales por grupo (n = 4) y los parámetros de secuenciación establecidos se basaron en las recomendaciones del Wellcome Trust Center for Human Genomics, además de las publicadas por Conesa et al. 18. La Figura 1 ilustra nuestra tubería RNAseq.

Análisis de expresión diferencial y cuasi-mapeo

La cuantificación del nivel de transcripción se realizó utilizando la función de cuasi-mapeo del paquete Salmon, donde las funciones incorporadas se corrigieron para GC y sesgo posicional 19. Estos datos se convirtieron en valores cuantitativos de expresión génica y se calculó y normalizó la expresión génica diferencial entre las cepas utilizando DESeq2 20. Obtuvimos un número promedio de lecturas mapeadas (74,75%) que no fue significativamente diferente entre los grupos (Tabla 1). DESeq2 se utilizó para generar una gráfica MA para la representación visual de nuestros datos genómicos (Fig. 1a complementaria) y se produjo una gráfica de Análisis de componentes principales (PCA) con normalización logarítmica para demostrar la variación dentro de nuestras muestras (Fig. 1b complementaria) 20. Como confirmación del fenotipo neuronal esperado, identificamos que los marcadores compatibles con las neuronas simpáticas se encontraban entre los genes más expresados ​​en ambas cepas (por ejemplo, dopamina-β hidroxilasa, Dbh y neuropéptido Y, Npy ver Tabla 2). El análisis de expresión diferencial identificó 776 genes expresados ​​diferencialmente en los ganglios estrellados, donde aproximadamente el 55% de los genes estaban regulados al alza y el 45% a la baja en el SHR. Se muestran los 20 genes principales expresados ​​diferencialmente (Fig. 2).

Descripción general de los genes expresados ​​diferencialmente en los ganglios estrellados. El diagrama de Venn representa el número total de transcripciones de genes reguladas al alza (353) y transcripciones reguladas a la baja (423) en los ganglios estrellados SHR, identificados por el análisis DESeq2 (a). Los principales cambios transcriptómicos expresados ​​diferencialmente entre los ganglios estrellados simpáticos de Wistar y SHR se enumeran donde el verde y el azul representan genes regulados hacia arriba y hacia abajo, respectivamente (B). El mapa de calor representa los niveles de expresión de genes expresados ​​diferencialmente en los ganglios estrellados de Wistar y SHR. La leyenda de color indica similitud de expresión génica entre muestras. Los gradientes de color de las muestras indican la similitud entre muestras de la expresión de la transcripción de un gen en particular. El dendrograma describe la similitud general de las muestras dentro de este conjunto de genes, destacando la distinción entre cepas, así como entre muestras dentro de cepas (C).

Análisis de ontología genética

Para evaluar la relevancia de los genes expresados ​​diferencialmente observados, agrupamos estos genes en familias de Ontología Genética (GO) 21 utilizando el paquete ClusterProfiler R 22. Identificamos diferencias significativas entre el transcriptoma SHR y Wistar en las siguientes categorías de GO: función molecular (MF) y componente celular (CC). Los grupos semánticamente redundantes se eliminaron mediante el paquete ClusterProfiler R 22. Para el propósito de este estudio, nuestro objetivo fue evaluar las diferencias en el transcriptoma SHR PGSN que pueden estar relacionadas con la hiperactividad simpática observada y la neurotransmisión mejorada, por lo tanto, decidimos centrar nuestra atención en los grupos MF GO sobrerrepresentados (en pag.adj & lt 0.01). El grupo GO más significativo dentro de la categoría MF se identificó como "actividad de canal iónico regulada por ligando extracelular" (Fig. 3 GO: 0005230 pag.adj = 3 × 10 −5). Los otros grupos GO significativamente sobrerrepresentados en el ganglio estrellado SHR incluyen (en orden de importancia): "actividad de éster fosfórico hidrolasa" (Fig. 3 GO: 0042578 pag.adj = 1,72 × 10 −4), "unión de ácidos orgánicos" (Tabla complementaria 1 GO: 0043177 pag.adj = 2,90 × 10 −3), "actividad del receptor de glutamato" (Tabla complementaria 1 GO: 0008066 pag.adj = 2,90 × 10 −3), "actividad del canal controlado" (Tabla complementaria 1 GO: 0022836 pag.adj = 3,59 × 10 −3) y "unión de ácido carboxílico" (Tabla complementaria 1 GO: 0031406 pag.adj = 4,93 × 10 −3). De los grupos MF GO sobrerrepresentados, encontramos una superposición significativa entre los genes identificados en 'actividad del canal iónico regulado por ligando extracelular' (GO: 0005230) 'actividad del receptor de glutamato' (GO: 0008066) y 'actividad del canal cerrado' (GO : 0022836) ya que estos grupos GO forman subcategorías del grupo GO parental 'actividad del canal iónico controlado por ligando' (GO: 0015276). Además, la "unión de ácidos orgánicos" (GO: 0043177) y la "unión de ácido carboxílico" (GO: 0031406) son subramas del grupo principal más grande "unión de moléculas pequeñas" (GO: 0036094). Las listas completas de los grupos MF y CC GO significativamente diferentes identificados en SHR PGSN se incluyen en los datos complementarios (Tablas complementarias 1, 2). Es importante destacar que las transcripciones expresadas diferencialmente dentro de estos grupos GO pueden estar relacionadas con la disfunción simpática observada en el modelo SHR. No hubo grupos de GO significativamente diferentes en la categoría de Proceso Biológico (BP) entre Wistar y SHR.

Ontología genética: categoría de función molecular.Los dos principales grupos de ontología genética (GO) de función molecular (MF) sobrerrepresentados incluyen "actividad de canal iónico regulado por ligando extracelular" (GO: 0005230) y "actividad de éster fosfórico hidrolasa" (GO: 0042578 a). Los diagramas de Venn representan los genes regulados al alza (verde) y los genes regulados a la baja (azul) en cada grupo GO (B,C respectivamente). Todos los demás grupos GO sobrerrepresentados se incluyen en el conjunto de datos complementario.

Expresión diferencial de genes de canales de iones regulados por ligandos extracelulares: confirmación por qRT-PCR

Obtuvimos cuatro ganglios estrellados de ARN de Wistar y SHR independientes para investigar si podíamos replicar la expresión génica diferencial de RNAseq utilizando qRT-PCR. En los 15 genes seleccionados, obtuvimos tendencias similares utilizando qRT-PCR como la observada en los datos de RNAseq, aunque debido a la variación dentro de las muestras, solo 4:15 genes alcanzaron significación (Fig.4, estudiantes de dos colas no apareados t-prueba Wistar vs SHR). Estos incluyeron Chrnb4 (Subunidad β4 nicotínica del receptor colinérgico), Gria1 (Subunidad 1 del tipo AMPA del receptor ionotrópico de glutamato), Grik1 (Receptor ionotrópico de glutamato tipo Kainato Subunidad 1) y Grin2b (Receptor ionotrópico de glutamato, subunidad de tipo NMDA 2B).

Grupo GO de actividad de canal iónico regulado por ligando extracelular (GO: 0005230). Se enumeran los genes expresados ​​diferencialmente en el grupo MF GO "actividad de canal iónico regulada por ligando extracelular" (GO: 0005230), donde el verde y el azul representan genes regulados hacia arriba y hacia abajo, respectivamente (a). La presencia de estos genes se validó utilizando qPara el análisis se aplicó RT-PCR y el método comparativo ΔΔCT (SHR / Wistar) con β2 microglobulina (B2m) seleccionado como el gen de limpieza para la comparación, ya que no hubo diferencia en B2m expresión entre cepas en el conjunto de datos RNAseq. Tronco2 Los pliegues de cambio de los genes expresados ​​diferencialmente en las estelas SHR identificados por RNAseq están representados en rojo (B). Tronco2 cambio de pliegue ± SEM de qTambién se muestran los datos de RT-PCR SHR (azul B) en relación con Wistar. El significado se indica encima de las barras correspondientes. Las tendencias de RNAseq para la regulación positiva o negativa de cada gen se confirmaron con qRT-PCR sin embargo, solo Chrnb4 (p & lt 0.05), Gria1 (p & lt 0,001), Grik1 (pág. & lt 0.05) y Grin2b (p & lt 0.05) fueron significativamente diferentes a los niveles de expresión medidos en las muestras de Wistar. La presencia de estos genes se confirmó en muestras de ganglios estrellados humanos (C). Para cuantificar la expresión de ARNm en muestras estrelladas humanas, los datos se normalizaron al gen de mantenimiento B2m y se aplicó el método ΔCT para el análisis.

Los genes de los canales iónicos activados por ligandos extracelulares se expresan en los ganglios estrellados simpáticos humanos

Para evaluar si estos genes se conservan en otras especies y tienen relevancia potencial para la actividad simpática humana, validamos la expresión de estos genes en ganglios obtenidos de donantes humanos. Dada la disponibilidad limitada de tejido humano de los pacientes, no fue posible evaluar el papel de estos genes en la enfermedad humana en sí. Sin embargo, es importante destacar que detectamos la presencia de subunidades del receptor de glutamato (AMPA, NMDA y Kainato) y GABA que no se han identificado previamente dentro de los ganglios estrellados simpáticos humanos (Fig. 4). También identificamos la presencia de receptores purinérgicos, glicinérgicos y serotoninérgicos.

Expresión diferencial de genes de actividad de éster hidrolasa fosfórico

Se descubrió que el grupo GO "actividad de éster fosfórico hidrolasa" (GO: 0042578) contiene el mayor número de genes expresados ​​diferencialmente en la categoría MF. Identificamos 13 genes regulados positivamente, incluidos Pde6b y 20 transcripciones de ARNm reguladas negativamente que incluyen Pde11a y Pde2a (Figuras 3 y 5). La expresión de 270 genes en este grupo no se modificó. Dentro de esta familia, identificamos que la mayoría de las transcripciones afectadas eran las que codificaban las enzimas fosfatasa.

Grupo GO de actividad de éster hidrolasa fosfórico (GO: 0042578). Se enumeran los genes expresados ​​diferencialmente en el grupo MF GO "actividad de hidrolasa de éster fosfórico" (GO: 0042578), donde el verde y el azul representan genes regulados hacia arriba y hacia abajo, respectivamente (a). Tronco2 veces el cambio de los genes de interés expresados ​​diferencialmente en SHR en relación con Wistar identificados por RNAseq (B).

Las vías de enriquecimiento funcional de KEGG están dañadas en el ganglio estrellado SHR

Utilizando el paquete ClusterProfiler R 22, realizamos un análisis de enriquecimiento de la vía de Kyoto Encyclopedia of Genes and Genome (KEGG) 23,24,25, que vincula las diferencias observadas dentro del transcriptoma SHR PGSN con vías de señalización intracelular relevantes. Analizamos la relevancia de los genes expresados ​​diferencialmente mediante la realización de un análisis KEGG de enriquecimiento funcional que identificó el "arrastre circadiano" (rno04713 pag.adj. = 0,004) "Sinapsis dopaminérgica" (rno04728 pag.adj. = 0,004) "Señalización endocannabinoide retrógrada" rno04723 pag.adj. = 0.0196) "Sinapsis glutamatérgica" (rno04724 pag.adj. = 0.0259) e "Interacción ligando-receptor neuroactivo" (rno04724 pag.adj. = 0,0259) como las vías más sobrerrepresentadas en la cepa hipertensiva (Fig.6, Tabla complementaria 3).

Vías de enriquecimiento de KEGG en SHR versus Wistar Stellate Ganglion. Identificamos 3 vías de enriquecimiento funcional de KEGG que son particularmente relevantes para la señalización postgangliónica postsináptica (a). El grupo con mayor sobrerrepresentación fue el "Arrastre circadiano" (rno04713 pag. adj = 4,24 × 10 −3) seguido de "Sinapsis Dopaminérgica" (rno04728 pag. adj = 4,24 × 10 −3) y "Sinapsis glutamatérgica" (rno04724 pag. adj = 2,59 × 10 −2). El diagrama de Venn muestra los genes regulados al alza (verde) y los genes regulados a la baja (azul) y resalta la superposición entre cada uno de los respectivos grupos KEGG sobrerrepresentados (B). Otros grupos KEGG sobrerrepresentados se incluyen en los datos complementarios. En (C), mostramos un diagrama de enriquecimiento de KEGG integrado, que combina las vías de señalización de las vías de KEGG sobrerrepresentadas "arrastre circadiano", "sinapsis dopaminérgica" y "sinapsis glutamatérgica". Aquí destacamos la posible participación de estos cambios transcriptómicos en la señalización intracelular. Esta figura se basa principalmente en el diagrama KEGG rno04713 suministrado.

Es importante destacar que muchos de los mismos genes estaban representados en cada uno de estos grupos, por lo tanto, combinamos las vías de señalización de KEGG (arrastre circadiano, sinapsis dopaminérgica y sinapsis glutamatérgica) para identificar la posible participación de estos cambios transcriptómicos en la señalización intracelular (Fig. 6b, c ). Las observaciones de la vía de enriquecimiento de KEGG indican que las transcripciones de ARN asociadas con la señalización de glutamato se expresan diferencialmente dentro de las PGSN cardíacas de SHR. Dentro de estos grupos KEGG, los genes asociados con la señalización del glutamato están acoplados a [Ca 2+]I directamente, donde las diferencias en la composición de las subunidades de los canales iónicos activados por glutamato afectan la permeabilidad del Ca 2+. Además, se cree que la generación de nucleótidos cíclicos y la activación de sus efectores influyen en la actividad de estos canales (Fig. 6b, c). La interacción entre la señalización del glutamato y los nucleótidos cíclicos dentro del sistema nervioso periférico no se ha descrito previamente.


Ejemplo 2

Se sintetizó yoduro de carbamato de p-trimetilamonio anilil-N-hidroxisuccinimidilo de acuerdo con los siguientes procedimientos. Se disolvió carbamato de p-dimetilaminoanilil-N-hidroxisuccinimidilo (264 mg) (1,1 mmol) en una mezcla de disolventes de 8 ml de acetonitrilo y 2 ml de diclorometano (Junsei Kagaku) ​​y se agitó. A esta solución se le añadieron 0,4 ml (8 equivalentes) de yoduro de metilo (Nakarai Tesk), seguido de agitación durante 23 horas y se filtró la sustancia separada. La cantidad resultante fue de 354 mg (rendimiento: 76%).

Espectro de 1H-RMN (DMSO-d6, ppm): δ 7,97 (d, 8,4 Hz, 2 H), 7,62 (d, 8,4 Hz, 2 H), 3,58 (s, 9 H), 2,83 (s, 4 H).

QTOFMS: m / z 292 [M] +, fórmula molecular C14H18norte3O4 (QTOFMS de alta resolución: m / z 292,1297 [M] +, Δ − 2,9 ppm).


¿Tiene el ADN un grupo fosfato o ácido fosfórico? - biología

La presente invención se refiere a una placa presensibilizada (en lo sucesivo, placa PS) para su uso en la fabricación de una placa de impresión litográfica así como a un método para la fabricación de la placa de impresión litográfica. Más específicamente, la presente invención se refiere a una plancha de impresión litográfica fotosensible fotopolimerizable cuyas características de revelado nunca se reducen o deterioran por el transcurso de un largo período de tiempo y / o el uso repetido de la misma, cuyas áreas sin imagen (áreas no expuestas ) tiene una buena capacidad de revelado, en la que el área sin imagen resultante de la plancha de impresión litográfica tiene una excelente resistencia a las manchas durante las operaciones de impresión, cuyas áreas de imagen (áreas expuestas) son altamente resistentes al revelado y que, por lo tanto, pueden formar imágenes bastante firmes. y que puede proporcionar una placa de impresión litográfica que tiene una alta durabilidad de impresión, así como un método para fabricar dicha placa de impresión litográfica.

Los reveladores, que convencionalmente se han utilizado ampliamente para desarrollar una placa de PS fotopolimerizable para su uso en la fabricación de placas de impresión litográfica, se pueden dividir aproximadamente en los siguientes tres grupos a) ac): a) un revelador no acuoso que comprende principalmente un disolvente orgánico b) un revelador acuoso que comprende principalmente un álcali inorgánico yc) un revelador acuoso que comprende principalmente una base orgánica.

Entre ellos, se han utilizado recientemente los reveladores acuosos b) yc) debido a los requisitos para la protección del medio ambiente.

Las propiedades características de estos dos tipos de reveladores se detallarán a continuación. El revelador b) que contiene álcali inorgánico se caracteriza porque comprende en general un silicato a un valor de pH próximo a 12 para la hidrofilización de la superficie del sustrato una vez completado el revelado.

Este silicato es un componente esencial utilizado en el tratamiento de hidrofilización para prevenir cualquier mancha del área sin imagen de la plancha de impresión litográfica durante las operaciones de impresión.

Por ejemplo, se ha conocido un revelador que tiene un valor de pH de no menos de 12, como los descritos en la publicación de patente japonesa no examinada (en lo sucesivo, & # x201cJ.P. KOKAI & # x201d) Hei 8-248643 y un revelador que tiene un valor de pH de no más de 12 como los descritos en JP KOKAI Hei 11-65129. El primer revelador que tiene un valor de pH no inferior a 12 puede disolver fácilmente el aluminio comúnmente utilizado como material para un sustrato. En particular, en el caso de un punto que tiene un área de imagen pequeña (un punto), se observa un fenómeno tal que el sustrato de aluminio justo debajo de la imagen del punto se disuelve debido al fenómeno de grabado lateral y dicho punto se elimina del sustrato durante operaciones de impresión (omitir puntos). En otras palabras, el revelador sufre un problema tal que puede deteriorar significativamente la durabilidad de impresión de la plancha de impresión litográfica resultante.

Además, el último revelador que tiene un valor de pH de no más de 12 es excelente en cuanto a durabilidad de impresión y resistencia a las manchas durante la impresión, pero el revelador sufre un nuevo problema tal que si el tratamiento de revelado con el revelador se continúa durante un período de tiempo. Durante un largo período de tiempo, el valor de pH del revelador puede reducirse debido, por ejemplo, a la acción del dióxido de carbono presente en el aire y el silicato se separa del revelador y esto hace que el tratamiento de revelado sea inestable.

Además, también se han propuesto reveladores libres de cualquier silicato y se describen ejemplos de los mismos en, por ejemplo, J.P. KOKAI Nos. Sho 61-109052, 2000-81711 y Hei 11-65126 y la Patente Alemana No. 1.984.605. Sin embargo, estos reveladores libres de silicato tienen una resistencia inferior a las manchas durante la impresión en comparación con los reveladores que contienen silicato y es difícil para los reveladores satisfacer simultáneamente los requisitos de resistencia a las manchas durante la impresión y durabilidad de la impresión.

Por otro lado, se conocen, como revelador c) que contiene una base orgánica, los que comprenden una amina orgánica tal como etanolamina y un disolvente orgánico alcohólico tal como alcohol bencílico como agente de revelado auxiliar. En este caso, su valor de pH es ciertamente bajo del orden de aproximadamente 10 y, por lo tanto, estos reveladores no se ven afectados negativamente por el dióxido de carbono y, por lo tanto, aseguran un procesamiento estable de las placas de PS expuestas. Sin embargo, estos reveladores son desventajosos en la hidrofilización del sustrato, mientras que su capacidad de penetrar en las áreas de la imagen es demasiado fuerte, en particular, afectan negativamente a las imágenes de puntos y las imágenes de puntos se eliminan del sustrato durante el revelado o sufren una problema de deterioro de la capacidad de formación de imágenes de la placa de PS para fabricar placas de impresión litográfica.

En otras palabras, aún no se ha desarrollado ningún revelador satisfactorio, teniendo en cuenta los problemas relacionados, por ejemplo, con la capacidad de formación de imágenes, la tinción de la plancha de impresión durante las operaciones de impresión y la durabilidad de la impresión y la capacidad de procesamiento o revelado estable. en el caso de la plancha de impresión litográfica fotopolimerizable.

Además, se ha reconocido que el desarrollo está muy influenciado por la composición del revelador y más específicamente por, por ejemplo, la presencia de un silicato, la altura del valor de pH y la diferencia entre los agentes alcalinos inorgánicos y orgánicos, pero los convencionales. las combinaciones nunca han resuelto los problemas anteriores.

Además, cuando la plancha de impresión litográfica fotopolimerizable sensible a la luz se revela continuamente durante un largo período de tiempo, las impurezas se acumulan, coagulan y precipitan en un revelador utilizado para generar espuma formada durante el revelado (espuma en desarrollo) y esto a su vez se convierte en una causa. de hacer que el desarrollo sea inestable.

Los componentes de tal escoria en desarrollo aún no se han dilucidado claramente, pero se ha encontrado, como resultado del análisis, que la mayoría de los componentes son componentes contenidos en la capa sensible a la luz e insolubles en el revelador.

Ejemplos de tales componentes insolubles en el revelador son varios tipos de agentes colorantes añadidos a la capa sensible a la luz para la discriminación de áreas expuestas a la luz de áreas no expuestas. Como tales agentes colorantes, se han utilizado en la capa fotosensible fotopolimerizable los denominados pigmentos, que no se dispersan molecularmente en la capa fotosensible, sino que se dispersan en la misma en forma de agregados, manteniendo la condición cristalina. , con el fin de prevenir cualquier desensibilización debida al atrapamiento de radicales y / o la debida a interacción innecesaria (como transferencia de energía y transferencia de electrones) con sistemas iniciadores (como iniciadores per se o combinaciones de colorantes sensibilizantes con iniciadores). Sin embargo, tales pigmentos son esencialmente insolubles en el revelador. En consecuencia, inicialmente se dispersan temporalmente en un revelador en el proceso de revelado para eliminar las áreas no expuestas, pero se acumulan, coagulan y precipitan en el revelador para generar así espuma en desarrollo, si el tratamiento de revelado se continúa durante un largo período de tiempo. .

Además, la plancha de impresión litográfica fotopolimerizable comprende una variedad de iniciadores de fotopolimerización (generadores de radicales) para hacer frente a las fuentes de luz láser desarrolladas recientemente y se conocen, en particular, iniciadores de tipo titanoceno, que son sensibles a los rayos de luz láser y excelentes en tanto estabilidad como sensibilidad. Sin embargo, el iniciador de tipo titanoceno es un organometal, insoluble en reveladores como los colorantes o pigmentos anteriores. En consecuencia, inicialmente se dispersan temporalmente en un revelador, pero también se acumulan, coagulan y precipitan en el revelador para generar así espuma en desarrollo, si el tratamiento de revelado se continúa durante un período de tiempo prolongado.

Por tanto, es muy importante resolver el problema de tal espuma en desarrollo además de la solución del problema anterior de la precipitación de silicato asociada con la reducción del valor de pH para asegurar la capacidad de procesamiento o desarrollo estable.

Por otro lado, como medio para mejorar la durabilidad de impresión de una plancha de impresión, se ha propuesto el uso de polímero de uretano, como aglutinante de alta resistencia, como los descritos en, por ejemplo, JP KOKAI Nos. Hei 3 -287165 y Hei 4-204453. Sin embargo, ninguno de ellos podría mostrar satisfactoriamente su función si se usa en combinación con el revelador anterior o no podrían proporcionar ninguna placa de impresión que tenga una durabilidad de impresión satisfactoria.

Como se ha descrito anteriormente en detalle, se ha deseado el desarrollo de una placa presensibilizada para su uso en la fabricación de placas de impresión litográfica, que pueda satisfacer los requisitos de capacidad de formación de imágenes, el logro simultáneo de alta resistencia a las manchas y durabilidad de la impresión. de la placa de impresión resultante y la capacidad de procesamiento estable, así como un método para hacer una placa de impresión litográfica.

En consecuencia, es un objeto de la presente invención proporcionar una plancha de impresión litográfica, que puede eliminar los inconvenientes asociados con las técnicas convencionales anteriores, que puede satisfacer simultáneamente los requisitos de alta resistencia a las manchas y alta durabilidad de impresión, lo que permite la disolución, en un revelador, de los compuestos anteriores insolubles en el revelador o la dispersión estable de los compuestos en el revelador durante un largo período de tiempo y que pueden mejorar la capacidad de procesamiento estable del revelador, sin perjudicar la capacidad de formación de imágenes en absoluto como así como un método para fabricar dicha plancha de impresión litográfica.

  • (i) al menos un compuesto de diisocianato
  • (ii) al menos un compuesto de diol que tiene al menos un grupo carboxilo
  • (iii) al menos un compuesto de diol cuyo valor de log P es menor que 0 en el que dicho valor de log P se define como un valor logarítmico de la relación de concentración equilibrada P calculada a partir de una proporción de partición entre la capa de octanol y la capa de agua y
  • (iv) al menos un compuesto de diol cuyo valor de log P es superior a 0, siempre que los compuestos (iii) y (iv) no incluyan compuestos de diol que tengan cada uno un grupo carboxilo.

De acuerdo con la presente invención, también se proporciona un método para fabricar una plancha de impresión litográfica que comprende los pasos de exponer en forma de imagen la plancha de PS anterior para hacer una plancha de impresión litográfica a un rayo láser y luego revelar la plancha de PS expuesta en forma de imagen con un revelador, que comprenden un compuesto no iónico representado por la siguiente fórmula general (I) y que tiene un valor de pH en el rango de 11.5 a 12.8 y una conductividad eléctrica en el rango de 3 a 30 mS / cm:
A & # x2212W & # x2003 & # x2003 (I)
donde, A representa un grupo orgánico hidrófobo derivado de A & # x2013H cuyo log P no es menor que 1,5 y W representa un grupo orgánico hidrófilo no iónico derivado de W & # x2013H cuyo log P es menor que 1,0).

Como realizaciones preferidas de la presente invención, ejemplos específicos de los compuestos no iónicos representados por la fórmula general (I) anterior y usados ​​preferiblemente en este documento son al menos un miembro seleccionado del grupo que consiste en compuestos activos de tipo éter aromático no iónico representados por

## STR00001 ##
las siguientes fórmulas (I-A) y (I-B):
en donde, R10, R20 cada uno representa H o un grupo hidrocarbonado que tiene de 1 a 100 átomos de carbono y cada n, m representa un número entero que varía de 0 a 100, siempre que nym no representen simultáneamente 0.

Como realización preferida del método de fabricación de placas de la presente invención, el revelador utilizado en el método anterior comprende además un silicato alcalino en una cantidad que varía de 0,75 a 4,0 expresada en términos de la relación molar: SiO2/METRO2O (M representa un residuo de metal alcalino o amonio).

Como otra realización preferida del método de fabricación de placas de la presente invención, el desarrollo en el método anterior se lleva a cabo de tal manera que la tasa de desarrollo del área no expuesta no sea inferior a 0,05 & # x3bcm / s. y la tasa de penetración del revelador en el área expuesta no es superior a 0,1 & # x3bcm / s.

Como otra realización preferida del método de fabricación de placas de la presente invención, el aglutinante de resina de poliuretano utilizado tiene un índice de acidez que varía de 0,2 a 4,0 meq / gy la capa sensible a la luz tiene un índice de acidez de no más de 1,0 meq / g. en el método anterior.

Como otra realización preferida del método de fabricación de placas de la presente invención, la capa sensible a la luz comprende al menos un miembro seleccionado del grupo que consiste en iniciadores de tipo titanoceno y agentes colorantes (pigmentos), en el método anterior.

Como se ha discutido anteriormente, la presente invención ha logrado el logro simultáneo de los requisitos de alta resistencia a las manchas y alta durabilidad de impresión, permitido la disolución, en un revelador, de los compuestos anteriores insolubles en el revelador o la dispersión estable del compuestos en el revelador durante un largo período de tiempo y también permitió la mejora de la capacidad de procesamiento estable del revelador, sin afectar en absoluto la capacidad de formación de imágenes, mediante el uso de un revelador que comprende componentes específicos y el uso de un poliuretano específico aglutinante de resina en la capa sensible a la luz.

En la actualidad, se considera que el revelador específico es una composición de revelador que cumple los siguientes requisitos:

En primer lugar, el revelador debería poder actuar de manera bastante favorable sobre una placa presensibilizada para su uso en la fabricación de una placa de impresión litográfica con respecto a la capacidad de formación de imágenes (más específicamente, el revelador muestra una gran capacidad para revelar áreas no expuestas, mientras tiene una baja capacidad de penetración en las zonas expuestas, la capa fotosensible se disuelve en el revelador sin provocar hinchazón y se disuelve en el mismo, por orden, desde la superficie del mismo).

En segundo lugar, el revelador debe permitir la eliminación completa de la capa sensible a la luz en el área no expuesta y puede regenerar la superficie del sustrato como una superficie hidrófila, que nunca causa manchas durante las operaciones de impresión.

En tercer lugar, debe comprender el compuesto no iónico anterior representado por la fórmula general (I), que puede dispersar o solubilizar de manera estable los compuestos anteriores insolubles en el revelador y que por lo tanto tiene un sitio hidrófobo capaz de interactuar con estos compuestos insolubles y un sitio hidrófilo para dispersándolos y estabilizándolos en agua.

En cuarto lugar, el revelador debe comprender un agente quelante para la eliminación de metales divalentes tales como iones de Ca incluidos en el agua y que sirva como factor principal para hacer inestable el proceso de revelado.

Entre estos, los requisitos primero y segundo para el revelador están muy influenciados por las propiedades características de los componentes incluidos en la capa sensible a la luz. En particular, la presencia de un aglutinante de resina de poliuretano específico en la capa sensible a la luz de la placa de impresión litográfica fotopolimerizable permite lograr un efecto sinérgico con el efecto anterior del revelador. Además, si el índice de acidez de la capa fotosensible es menor que el observado para la capa fotosensible convencional, el efecto anterior se vuelve más notorio y, por lo tanto, el índice de acidez de la misma se considera importante.

HIGO. 1 muestra esquemáticamente un dispositivo para determinar una tasa de penetración del desarrollador.

HIGO. 2 muestra esquemáticamente un gráfico en el que se trazan los resultados obtenidos por el dispositivo para determinar una tasa de penetración del revelador.

HIGO. 3 muestra esquemáticamente un dispositivo de medición de ondas de interferencia DRM utilizado en la determinación de la disolución y el hinchamiento de la capa sensible a la luz.

HIGO. 4A muestra los resultados sobre ondas de interferencia determinados por el dispositivo de medición de ondas de interferencia DRM, en el caso de la invención.

HIGO. 4B muestra los resultados de las ondas de interferencia determinados por el dispositivo de medición de ondas de interferencia DRM, en el caso de una técnica convencional.

El método para fabricar una plancha de impresión litográfica según la presente invención se describirá con más detalle a continuación.

En primer lugar, se describirá a continuación la placa de PS para utilizar en la fabricación de una placa de impresión litográfica utilizada en la presente invención. La placa de PS comprende un sustrato de aluminio provisto encima de una capa sensible a la luz, que comprende un aglutinante de resina de poliuretano, un compuesto que contiene enlaces etilénicamente insaturado polimerizable por adición y un iniciador de fotopolimerización.

La capa sensible a la luz de la placa de PS para hacer una placa de impresión litográfica utilizada en la presente invención es una composición sensible a la luz, que comprende un aglutinante de resina de poliuretano, un compuesto que contiene un enlace etilénicamente insaturado polimerizable por adición y un iniciador de fotopolimerización y que es aplicado sobre la superficie de un sustrato de aluminio.

  • (a) Un aglutinante de resina de poliuretano
  • (b) Un compuesto que contiene un enlace etilénicamente insaturado polimerizable por adición y
  • (c) Un iniciador de fotopolimerización.
    La capa sensible a la luz puede comprender, si es necesario, una variedad de compuestos tales como un agente colorante, un plastificante y / o un inhibidor de la polimerización por calor.

En primer lugar, se detallará a continuación el aglutinante de resina de poliuretano (a) utilizado en la presente invención.

  • (i) Al menos un compuesto de diisocianato
  • (ii) Al menos un compuesto de diol que tiene al menos un grupo carboxilo
  • (iii) Al menos un compuesto de diol cuyo valor de log P es menor que 0, en el que dicho valor de log P se define como un valor logarítmico de la relación de concentración equilibrada P calculada a partir de una proporción de partición entre la capa de octanol y la capa de agua y
  • (iv) Al menos un compuesto de diol cuyo valor de log P es superior a 0, siempre que los compuestos (iii) y (iv) no incluyan compuestos de diol que tengan cada uno un grupo carboxilo.

El uso de un aglutinante de resina de este tipo permitiría la inhibición de cualquier daño del área expuesta durante el revelado y la impartición de una buena resistencia a las manchas y una alta durabilidad de impresión a la plancha de impresión litográfica resultante, sin reducir la capacidad de revelado de los no expuestos. área incluso cuando el índice de acidez de la capa sensible a la luz es bajo.

Ejemplos de compuestos de diisocianato utilizables en la presente son los representados por la siguiente fórmula general (1):
OCN-L-NCO & # x2003 & # x2003 (1)
en donde, L representa un grupo hidrocarbonado alifático o aromático divalente. Si es necesario, L puede tener otros grupos funcionales, que nunca reaccionan con grupos isocianato, tales como grupos carbonilo, éster, uretano, amida y / o ureido.

Más específicamente, L representa un enlace sencillo o un grupo hidrocarbonado alifático o aromático divalente, que puede tener un sustituyente (preferiblemente usado aquí incluye, por ejemplo, grupos alquilo, aralquilo, arilo, alcoxi y / o halógeno), preferiblemente un grupo alquileno que tiene 1 a 20 átomos de carbono o un grupo arileno que tiene de 6 a 15 átomos de carbono y más preferiblemente un grupo alquileno que tiene 1 a 8 átomos de carbono. Además, L puede comprender si es necesario otros grupos funcionales, que nunca reaccionan con grupos isocianato, tales como grupos carbonilo, éster, uretano, amida, ureido y / o éter.

Ejemplos específicos de compuestos de diisocianato son compuestos de diisocianato aromáticos tales como diisocianato de 2,4-tolileno, dímero de di-isocianato de 2,4-tolileno, di-isocianato de 2,6-tolileno, di-isocianato de p-xilileno , diisocianato de m-xilileno, diisocianato de 4,4 & # x2032-difenil-metano, di-isocianato de 1,5-naftileno y di-isocianato de 3,3 & # x2032-dimetilbifenil-4,4 & # x2032-di-isocianato alifático compuestos de isocianato tales como diisocianato de hexametileno, diisocianato de trimetilhexametileno, diisocianato de lisina y diisocianato de ácido dimérico compuestos de diisocianato alicíclico tales como diisocianato de isoforona, 4,4 & # x2032-metilen-bis (ciclohexil isocianato ), metil ciclohexano-2,4 (o 2,6) diisocianato y 1,3- (isocianato de metil) ciclohexano y compuestos de diisocianato como productos de reacción de dioles con diisocianatos, como un producto de adición de un mol de 1,3-butilenglicol con 2 moles de diisocianato de tolileno.

Estos compuestos de diisocianato se pueden usar solos o en cualquier combinación de al menos dos de ellos. Se utilizan preferentemente en combinaciones de al menos dos de ellos desde el punto de vista del equilibrio entre la durabilidad de la impresión y la resistencia a las manchas de la plancha de impresión resultante y, en particular, se prefiere utilizar una combinación de al menos un di aromático -compuesto de isocianato (L representa un grupo aromático) con al menos un compuesto de diisocianato alifático (L representa un grupo alifático).

La cantidad de diisocianato a usar varía preferiblemente de 0,8 a 1,2 y más preferiblemente de 0,9 a 1,1 expresada en términos de la relación molar: compuesto de diisocianato / compuesto de diol. En caso de que el compuesto de diisocianato se use en exceso con respecto al compuesto de diol y los grupos isocianato permanezcan en los extremos del polímero resultante, el polímero debe tratarse con alcoholes o aminas después de la finalización de la reacción para convertir el diisocianato en uretano para eliminar así finalmente cualquier grupo isocianato restante de la resina de uretano.

(ii) Al menos un compuesto de diol que tiene al menos un grupo carboxilo

Como al menos un compuesto diol que tiene al menos un grupo carboxilo, se pueden enumerar, por ejemplo, compuestos diol representados por las siguientes fórmulas generales (2), (3) y (4) y / o compuestos obtenidos por escisión tetracarboxílico di-anhídridos de ácido con compuestos diol. Los compuestos de diol utilizables en la presente memoria para escindir los di-anhídridos de ácido carboxílico pueden ser los representados por la fórmula (iii) y la fórmula (iv), como se describirá más adelante.

R1 representa un átomo de hidrógeno o un grupo alquilo, aralquilo, arilo, alcoxi o ariloxi, que puede tener un sustituyente (como ciano, nitro, átomo de halógeno (& # x2014F, & # x2014Cl, & # x2014Br, & # x2014I), & # x2014CONH2, & # x2014COOR113, & # x2014OR113, & # x2014NHCONHR113, & # x2014NHCOOR113, & # x2014NHCOR113, & # x2014OCONHR113 (donde R113 representa un grupo alquilo de 1 a 10 átomos de carbono o un grupo aralquilo de 7 a 15 átomos de carbono), preferiblemente un átomo de hidrógeno, un grupo alquilo de 1 a 8 átomos de carbono o un grupo arilo de 6 a 15 átomos de carbono.

L10, L11, L12 pueden ser iguales o diferentes y cada uno representa un enlace sencillo o un grupo hidrocarbonado alifático o aromático divalente, que puede tener un sustituyente (ejemplos preferidos de los mismos son grupos alquilo, aralquilo, arilo, alcoxi y / o halógeno), preferiblemente un grupo alquileno que tiene 1 a 20 átomos de carbono o un grupo arileno que tiene de 6 a 15 átomos de carbono y más preferiblemente un grupo alquileno que tiene 1 a 8 átomos de carbono. Además, L10, L11 y yo12 puede comprender, si es necesario, otros grupos funcionales, que nunca reaccionan con grupos isocianato, tales como grupos carbonilo, éster, uretano, amida, ureido y / o éter. A este respecto, dos o tres sustituyentes de R1, L10, L11 y yo12 puede formar un anillo.

Ar representa un grupo hidrocarburo aromático trivalente, que puede tener un sustituyente, y preferiblemente un grupo aromático que tiene de 6 a 15 átomos de carbono.

Los ejemplos específicos de compuestos de diol que tienen grupos carboxilo y representados por la fórmula anterior (2), (3) o (3) incluyen los enumerados a continuación: ácido 3,5-dihidroxibenzoico, ácido 2,2-bis (hidroximetil) propiónico, 2 , Ácido 2-bis (2-hidroxietil) propiónico, ácido 2,2-bis (3-hidroxipropil) propiónico, ácido bis (hidroximetil) acético, ácido bis (4-hidroxifenil) acético, 2,2-bis (hidroximetil) acético ácido, ácido 4,4-bis (4-hidroxi-fenil) pentanoico, ácido succínico, N, N-dihidroxi-etilglicina y N, N-bis (2-hidroxietil) -3-carboxipropionamida.

Además, ejemplos de di-anhídridos de ácido tetracarboxílico usados ​​preferiblemente para la preparación de al menos un compuesto diol que tiene al menos un grupo carboxilo son los representados por las siguientes fórmulas generales (5), (6), (7):

## STR00003 ##
donde, L21 representa un enlace sencillo, un grupo hidrocarbonado alifático o aromático divalente, que puede tener un sustituyente (ejemplos preferidos de los mismos son grupos alquilo, aralquilo, arilo, alcoxi, éster y amida o átomos de halógeno), & # x2014CO & # x2014, & # x2014SO & # x2014, & # x2014SO2& # x2014, & # x2014O & # x2014 o & # x2014S & # x2014. El sustituyente representa preferiblemente un enlace sencillo, un grupo hidrocarbonado alifático divalente que tiene de 1 a 15 átomos de carbono, & # x2014CO & # x2014, & # x2014SO2& # x2014, & # x2014O & # x2014 o & # x2014S & # x2014. R2, R3 pueden ser iguales o diferentes y cada uno representa un átomo de hidrógeno o un grupo alquilo, aralquilo, arilo, alcoxi o halógeno y preferiblemente un átomo de hidrógeno, un grupo alquilo que tiene de 1 a 8 átomos de carbono, un grupo arilo que tiene de 6 a 15 átomos de carbono, un grupo alcoxi que tiene de 1 a 8 átomos de carbono o un grupo halógeno. En este sentido, dos de L21, R2 y R3 pueden unirse para formar un anillo. R4, R5 pueden ser iguales o diferentes y cada uno representa un átomo de hidrógeno o un grupo alquilo, aralquilo, arilo o halógeno y preferiblemente un átomo de hidrógeno, un grupo alquilo que tiene de 1 a 8 átomos de carbono o un grupo arilo que tiene de 6 a 15 átomos de carbono. En este sentido, dos de L21, R4 y R5 pueden unirse para formar un anillo. L22, L23 pueden ser iguales o diferentes y cada uno representa un enlace sencillo, un enlace doble o un grupo hidrocarburo alifático divalente y preferiblemente un enlace sencillo, un enlace doble o un grupo metileno. A representa un anillo aromático mononuclear o polinuclear y preferiblemente un anillo aromático que tiene de 6 a 18 átomos de carbono.

Los ejemplos específicos de compuestos representados por la fórmula general (5), (6) o (7) incluyen los enumerados a continuación:

Los ejemplos específicos de los compuestos incluyen dianhídridos aromáticos de ácido tetracarboxílico tales como dianhídrido de ácido piromelítico, dianhídrido de ácido 3,3 & # x2032,4,4 & # x2032-benzofenona-tetracarboxílico, 3,3 & # x2032,4,4 & # x2032- dianhídrido del ácido difenil-tetracarboxílico, dianhídrido del ácido 2,3,6,7-naftalen-tetracarboxílico, dianhídrido del ácido 1,4,5,8-naftalen-tetracarboxílico, dianhídrido del ácido 4,4 & # x2032-sulfonil-diftálico, 2,2-bis (3,4-di-carboxifenil) propano dianhídrido, bis (3,4-dicarboxifenil) éter dianhídrido, 4,4 & # x2032- [3,3 & # x2032- (alquil-fosforil- di-fenileno) -bis (iminocarbonil)] di-anhídrido de ácido diftálico, aducto de diacetato de hidroquinona con anhídrido de ácido trimelítico y aducto de diacetildiamina con anhídrido de ácido trimelítico dianhídridos de ácido tetracarboxílico alicíclico tales como 5- (2,5 -dioxo-tetrahidrofuril) -3-metil-3-ciclohexeno-1,2-dicarboxílico anhídrido (EPICHLON B-4400 disponible de Dainippon Ink and Chemicals, Inc.), ácido 1,2,3,4-ciclopentano-tetracarboxílico d ianhídrido, dianhídrido de ácido 1,2,4,5-ciclohexano-tetracarboxílico y dianhídrido de ácido tetrahidrofurano-tetracarboxílico y dianhídridos de ácido tetracarboxílico alifático tales como dianhídrido de ácido 1,2,3,4-butano-tetracarboxílico y 1,2,4, Dianhídrido del ácido 5-pentano-tetracarboxílico.

  • a) Un método comprende las etapas de escindir un dianhídrido de ácido tetracarboxílico con un compuesto de diol para formar un compuesto que lleva un grupo alcohol terminal y luego hacer reaccionar el compuesto con un compuesto de diisocianato.
  • b) Un método comprende las etapas de hacer reaccionar un compuesto de diisocianato con un compuesto de diol en exceso para dar un compuesto de uretano que lleva un grupo alcohol terminal y luego hacer reaccionar el compuesto de uretano con un dianhídrido de ácido tetracarboxílico.

Entre los compuestos de diol que llevan cada uno al menos un grupo carboxilo, los representados por la fórmula general (2) se usan preferiblemente en la presente debido a su alta solubilidad en disolventes y fácil preparación. Además, el al menos un compuesto de diol que tiene al menos un grupo carboxilo se introduce en el aglutinante de resina de poliuretano en una cantidad tal que el aglutinante de resina de poliuretano resultante tiene grupos carboxilo comprendidos en el intervalo de 0,2 a 4,0 meq / g, preferiblemente de 0,3 a 3,0 meq / g, más preferiblemente 0,4 a 2,0 meq / g, particularmente preferiblemente 0,5 a 1,5 meq / gy lo más preferiblemente 0,6 a 1,2 meq / g. Por consiguiente, el contenido de la estructura derivada del al menos un compuesto de diol que tiene al menos un grupo carboxilo (ii) en el aglutinante de resina de poliuretano resultante puede seleccionarse apropiadamente dependiendo de una variedad de factores tales como el número de grupos carboxilo, los tipos de otros componentes diol usados, el índice de acidez y el peso molecular del aglutinante de resina de poliuretano resultante y la composición y el valor de pH del revelador usado, pero el contenido varía, por ejemplo, de 5 a 45% en moles, preferiblemente de 10 a 40% en moles y más preferiblemente del 15 al 35% en moles.

(iii) Al menos un compuesto de diol cuyo valor log P es menor que 0

El término & # x201clog P & # x201d que aparece en la definición de los compuestos diol (iii) y (iv) tiene un significado idéntico al especificado más adelante en relación con el tensioactivo no iónico presente en el revelador y también puede calcularse sobre la base de los datos conocidos.

El compuesto diol utilizable aquí, cuyo valor log P es menor que 0, no está restringido a ninguno en particular, pero el compuesto diol no incluye aquellos que tienen un valor log P menor que 0 y que comprenden un grupo carboxilo. Como compuestos diol cuyo valor log P es menor que 0, pueden enumerarse, por ejemplo, compuestos de etilenglicol representados por la siguiente fórmula general (A & # x2032):
HO & # x2014 (CH2CH2O)norte& # x2014H & # x2003 & # x2003 (A & # x2032)
(donde n es un número entero no menor que 1.)

Los ejemplos de dichos compuestos de diol también incluyen copolímeros aleatorios y copolímeros de bloque de óxidos de etileno que tienen grupos hidroxilo terminales y óxido de propileno, cuyo valor de log P es menor que 0.

Los compuestos de diol también utilizables aquí incluyen, por ejemplo, aductos de óxido de etileno de bisfenol A (el número de óxido de etileno añadido no es menor de 27 y no más de 100), aductos de óxido de etileno de bisfenol F (el número de óxido de etileno añadido es no menos de 22 y no más de 100), aductos de óxido de etileno de bisfenol A hidrogenado (el número de óxido de etileno añadido no es menos de 23 y no más de 100) y aductos de óxido de etileno de bisfenol F hidrogenado (el número de etileno añadido óxido es no menos de 18 y no más de 100). Estos compuestos de diol cuyo valor de log P es menor que 0 pueden usarse solos o en cualquier combinación de al menos dos de ellos, pero preferiblemente se usan por separado desde el punto de vista de la estabilidad (en, por ejemplo, sensibilidad y durabilidad de impresión) de la plancha de impresión.

El compuesto de diol cuyo valor de log P es menor que 0 debe tener un valor de log P preferiblemente comprendido entre & # x221210 y & # x22120,5, más preferiblemente & # x22128 a & # x22121 y más preferiblemente & # x22125 a & # x22121. 2 desde el punto de vista de la resistencia a las manchas de la plancha de impresión resultante. Más específicamente, se usan preferiblemente en este documento aquellos seleccionados de compuestos de etilenglicol representados por la Fórmula (A & # x2032) desde el punto de vista de la resistencia a la tinción, más preferiblemente compuestos de etilenglicol de Fórmula (A & # x2032) en la que n varía de 2 a 50 , más preferiblemente compuestos de etilenglicol de Fórmula (A & # x2032) en la que n varía de 3 a 30 y particularmente preferiblemente compuestos de etilenglicol de Fórmula (A & # x2032) en la que n varía de 4 a 10. El contenido de al menos uno El compuesto diol cuyo valor log P es menor que 0 en el aglutinante de resina de poliuretano se selecciona apropiadamente teniendo en cuenta una variedad de factores tales como el valor log P de cada compuesto diol específico seleccionado, los tipos de otros compuestos diol usados, el ácido valor y peso molecular del aglutinante de resina de poliuretano resultante y la composición y valor de pH del revelador usado, pero preferiblemente varía de 1 a 45% en moles, más preferiblemente de 5 a 40% en moles, más pr preferiblemente de 10 a 35% en moles y particularmente preferiblemente de 15 a 30% en moles.

(iv) Al menos un compuesto de diol cuyo valor log P es mayor que 0

Los compuestos diol cuyo valor log P es mayor que 0 no están restringidos a compuestos específicos en la medida en que tengan un valor log P mayor que 0, siempre que los compuestos diol que contengan grupos carboxilo estén excluidos de la definición del al menos un compuesto diol. cuyo valor de log P es mayor que 0.

Ejemplos específicos de tales compuestos de diol son 1,2-propilenglicol, di-1,2-propilenglicol, tri-1,2-propilenglicol, tetra-1,2-propilenglicol, hexa-1,2-propilenglicol, 1,3-propilenglicol, di-1,3-propilenglicol, tri-1,3-propilenglicol, tetra-1,3-propilenglicol, 1,3-butilenglicol, di-1,3-butilenglicol, tri-1,3-butilenglicol, hexa-1,3-butilenglicol, polipropilenglicol con un peso molecular medio de 400, polipropilenglicol con un peso molecular medio de 700, polipropilenglicol con un peso molecular medio de 1000, polipropilenglicol con un peso molecular medio de 2000, polipropilenglicol con un peso molecular medio de 3000, polipropilenglicol con un peso molecular medio de 4000, neopentilglicol, 2-buteno-1,4-diol, 2,2,4-trimetil-1 , 3-pentanodiol, 1,4-bis- & # x3b2-hidroxi-etoxi-ciclohexano, 1,4-butanodiol, 1,5-pentanodiol, 1,6-hexanodiol, 1,7-heptanodiol, 1,8-octanodiol , ciclohexano dimetanol, triciclodecano dimetano ol, bisfenol A hidrogenado, bisfenol F hidrogenado, aductos de óxido de etileno de bisfenol A (con un número de óxido de etileno añadido de no más de 26), aductos de óxido de etileno de bisfenol F (con un número de óxido de etileno añadido de no más de 21 ), aductos de óxido de etileno de bisfenol A hidrogenado (con un número de óxido de etileno añadido de no más de 22), aductos de óxido de etileno de bisfenol F hidrogenado (con un número de óxido de etileno añadido de no más de 17), aductos de óxido de propileno de bisfenol A, aductos de óxido de propileno de bisfenol F, aductos de óxido de propileno de bisfenol A hidrogenado, aductos de óxido de propileno de bisfenol F hidrogenado, hidroquinona dihidroxi-etil éter, p-xilenglicol, dihidroxietil sulfona, bis (2-hidroxietil) -2 , 4-tolilen dicarbamato, 2,4-tolilen-bis (2-hidroxietil-carbamida), bis (2-hidroxietil) -m-xililen dicarbamato y bis (2-hidroxietil) isoftalato.

Utilizados adecuadamente en el presente documento también incluyen compuestos representados por las siguientes fórmulas generales (A), (B), (C), (D), (E) y cuyo valor de log P es mayor que 0:

## STR00004 ##
en donde, R6 representa un átomo de hidrógeno o un grupo metilo, siempre que en la Fórmula (A), R6 es un grupo metilo. Además, X representa los siguientes grupos.

Además, cada uno de a, b, c, d, e, f, g en las fórmulas (A) a (E) representa un número entero de no menos de 2 y preferiblemente un número entero que varía de 2 a 100.

Los ejemplos específicos de dioles (iv) también incluyen los compuestos de poliéster diol representados por las fórmulas generales (8), (9) y que tienen un valor de log P mayor que 0.

En las fórmulas, L1, L2 y yo3 pueden ser iguales o diferentes y cada uno representa un grupo hidrocarbonado alifático o aromático divalente y L4 representa un grupo hidrocarburo alifático divalente. Preferiblemente, L1, L2 y yo3 cada uno representa un grupo alquileno, alquenileno, alquinileno o arileno y L4 representa un grupo alquileno. El sustituyente L1, L2, L3, L4 puede comprender otros grupos funcionales, que no son reactivos con grupos isocianato, tales como un grupo éter, carbonilo, éster, ciano, olefina, uretano, amida o ureido o un átomo de halógeno. Cada uno de n1 y n2 representa un número entero de no menos de 2 y preferiblemente un número entero que varía de 2 a 100.

Los compuestos de policarbonato diol representados por la siguiente fórmula general (10) y que tienen un valor de log P superior a 0 también pueden enumerarse como ejemplos específicos de dioles (iv):

## STR00007 ##
en donde, los sustituyentes L5 pueden ser iguales o diferentes y cada uno representa un grupo hidrocarburo alifático o aromático divalente. Preferiblemente, L5 representa un grupo alquileno, alquenileno, alquinileno o arileno. Además, los sustituyentes L5 puede comprender otros grupos funcionales, que no son reactivos con grupos isocianato, tales como éter, carbonilo, éster, ciano, olefina, uretano, amida o grupo ureido o un átomo de halógeno y n3 representa un número entero no menor de 2 y preferiblemente un número entero que van de 2 a 100.

Los ejemplos específicos de compuestos de diol representados por la Fórmula (8), (9) o (10) incluyen los enumerados a continuación. En los siguientes ejemplos específicos, n es un número entero de no menos de 2.

En la presente invención, también es posible utilizar compuestos diol, que están libres de cualquier grupo carboxilo, que pueden tener otros sustituyentes no reactivos con isocianatos y cuyo valor de log P es mayor que 0.

Los ejemplos de dichos compuestos de diol incluyen los que se enumeran a continuación:
HO-L6-O & # x2014CO-L7-CO & # x2014O-L6-OH & # x2003 & # x2003 (11)
HO-L7-CO & # x2014O-L6-OH & # x2003 & # x2003 (12)
donde, L6, L7 pueden ser iguales o diferentes y cada uno representa un grupo hidrocarburo alifático divalente, un grupo hidrocarburo aromático o un grupo heterocíclico, que puede tener un sustituyente (como grupos alquilo, aralquilo, arilo, alcoxi, ariloxi o átomos de halógeno (& # x2014F, & # x2014Cl, & # x2014Br, & # x2014I)). L6, L7 puede comprender, si es necesario, otros grupos funcionales, que no son reactivos con grupos isocianato, tales como grupos carbonilo, éster, uretano, amida o ureido. Además, L6, L7 puede formar un anillo.

Los ejemplos específicos de los compuestos representados por la Fórmula (11) o (12) incluyen los enumerados a continuación:

Los siguientes compuestos de diol también se pueden usar preferiblemente en la presente invención:

## STR00012 ##
HO & # x2014CH2& # x2014C & # x2261C & # x2014CH2& # x2014OH & # x2003 & # x2003 (17)
HO & # x2014CH2& # x2014CH & # x2550CH & # x2014CH2& # x2014OH & # x2003 & # x2003 (18)
en donde, R7, R8 pueden ser iguales o diferentes y cada uno representa un grupo alquilo sustituido o no sustituido y preferiblemente un grupo alquilo que tiene de 1 a 10 átomos de carbono, que puede tener sustituyentes tales como un átomo de halógeno (& # x2014F, & # x2014Cl, & # x2014Br, & # x2014I), ciano, nitro y # x2014CONH2, grupos & # x2014COOR y / o & # x2014OR (donde los sustituyentes R pueden ser iguales o diferentes y cada uno representa un grupo alquilo que tiene de 1 a 10 átomos de carbono, un grupo arilo que tiene de 7 a 15 átomos de carbono o un grupo aralquilo).

Los ejemplos específicos de los compuestos diol representados por la fórmula (16) son los que se enumeran a continuación:

Ejemplos de otros compuestos de diol incluyen 2-butin-1,4-diol para el diol representado por la fórmula (17) y cis-2-buteno-1,4-diol y trans-2-buteno-1,4-diol para los dioles representados por la fórmula (18).

Además, los compuestos de diol usados ​​adecuadamente en la presente invención también incluyen los que se describen a continuación:
HO-L8-NH & # x2014CO-L9-CO & # x2014NH-L8-OH & # x2003 & # x2003 (19)
HO-L9-CO & # x2014NH-L8-OH & # x2003 & # x2003 (20)
donde, L8, L9 pueden ser iguales o diferentes y cada uno representa un grupo hidrocarburo alifático divalente, un grupo hidrocarburo aromático o un grupo heterocíclico, que puede tener un sustituyente (como grupos alquilo, aralquilo, arilo, alcoxi, ariloxi o átomos de halógeno (& # x2014F, & # x2014Cl, & # x2014Br, & # x2014I)). L8, L9 puede comprender, si es necesario, otros grupos funcionales, que no son reactivos con grupos isocianato, tales como grupos carbonilo, éster, uretano, amida o ureido. Además, L8, L9 puede formar un anillo.

Los ejemplos específicos de los compuestos representados por la Fórmula (19) o (20) incluyen los enumerados a continuación:

Además, los siguientes compuestos de diol también pueden usarse adecuadamente en la presente invención:
HO & # x2014Ar2- (L16-Arkansas3)norte& # x2014OH & # x2003 & # x2003 (21)
HO & # x2014Ar2-L16-OH & # x2003 & # x2003 (22)
donde, L16 representa un grupo hidrocarburo alifático divalente, que puede tener un sustituyente (tal como grupos alquilo, aralquilo, arilo, alcoxi, ariloxi y / o halógeno). L16 puede comprender, si es necesario, otros grupos funcionales, que no son reactivos con grupos isocianato, tales como grupos éster, uretano, amida o ureido.

Arkansas2, Ar3 pueden ser iguales o diferentes y cada uno representa un grupo hidrocarburo aromático divalente, que puede tener un sustituyente y preferiblemente un grupo aromático que tiene de 6 a 15 átomos de carbono.

n es un número entero que va de 0 a 10.

Los ejemplos específicos de los compuestos de diol representados por la fórmula (21) o (22) incluyen los enumerados a continuación:

Más específicamente, sus ejemplos incluyen catecol, resorcina, hidroquinona, 4-metil catecol, 4-t-butil catecol, 4-acetil catecol, 3-metoxi catecol, 4-fenil catecol, 4-metil resorcina, 4-etil resorcina, 4 -t-butil resorcina, 4-hexil resorcina, 4-clororesorcina, 4-bencil resorcina, 4-acetil resorcina, 4-carbometoxi resorcina, 2-metil resorcina, 5-metil resorcina, t-butil hidroquinona, 2,5-di -t-butil hidroquinona, 2,5-di-t-amil hidroquinona, tetrametil hidroquinona, tetracloro-hidroquinona, metil-carboamino-hidroquinona, metil-ureido-hidroquinona, metiltio-hidroquinona, benzonorborneno-3,6-diol, bisfenol A , bisfenol S, 3,3 & # x2032-dicloro-bisfenol S, 4,4 & # x2032-dihidroxi-benzofenona, 4,4 & # x2032-dihidroxi-bifenilo, 4,4 & # x2032-tiodifenol, 2,2 & # x2032-di -hidroxi-difenilmetano, 3,4-bis (p-hidroxifenil) hexano, 1,4-bis (2- (p-hidroxi-fenil) propil) benceno, bis (4-hidroxifenil) metilamina, 1,3-dihidroxi- naftaleno, 1,4-dihidroxinaftaleno, 1,5-dihidroxinaftaleno, 2,6-di hidroxinaftaleno, 1,5-dihidroxi-antraquinona, alcohol 2-hidroxibencílico, alcohol 4-hidroxibencílico, alcohol 2-hidroxi-3,5-di-t-butilbencílico, 4-hidroxi-3,5-di-t-butilbencilo alcohol, 4-hidroxifenetílico, 2-hidroxietil-4-hidroxibenzoato, 2-hidroxietil-4-hidroxifenil acetato y resorcina mono-2-hidroxietiléter. También es posible utilizar adecuadamente los siguientes compuestos de diol:

El compuesto de diol cuyo valor de log P es mayor que 0 preferiblemente tiene un valor de log P que varía de 0,5 a 30, más preferiblemente de 1 a 20, más preferiblemente de 2 a 15 y particularmente preferiblemente de 3 a 15 desde el punto de vista de la durabilidad de impresión del producto resultante. placa de impresión. Además, se prefieren los compuestos representados por las fórmulas generales (A) a (E) ya que su uso permite la preparación de una plancha de impresión con buena durabilidad de impresión y los polipropilenglicoles representados por la fórmula general (A) (donde R6 es un grupo metilo) se usan más preferiblemente en este documento entre otros. Además, entre los polipropilenglicoles representados por la fórmula general (A) (donde R6 es un grupo metilo), se prefieren los de fórmula (A) en los que a varía de 5 a 50, más preferiblemente de 10 a 40 y más preferiblemente de 15 a 30, desde el punto de vista del buen equilibrio entre la durabilidad de la impresión y la resistencia a las manchas.

El contenido de la estructura derivada del al menos un compuesto de diol que tiene un valor de log P mayor que 0 en el aglutinante de resina de uretano puede seleccionarse apropiadamente teniendo en cuenta una variedad de factores tales como el valor de log P de cada compuesto de diol específico. utilizado, los tipos de otros componentes de diol, el índice de acidez y el peso molecular del aglutinante de resina de uretano resultante y la composición y el valor de pH del revelador utilizado y preferiblemente varía de 1 a 45% en moles, más preferiblemente de 5 a 40% en moles, adicionalmente preferiblemente de un 10 a un 35% en moles y particularmente preferiblemente de un 15 a un 30% en moles.

Estos compuestos de diol cuyo valor de log P es mayor que 0 pueden usarse solos o en cualquier combinación de al menos dos de ellos, pero preferiblemente se usan por separado teniendo en cuenta la estabilidad de la plancha de impresión (como la sensibilidad y la durabilidad de la impresión). .

(v) Otros compuestos que contienen grupos amino

En el aglutinante de resina de poliuretano utilizado en la presente invención, el siguiente compuesto que contiene un grupo amino puede hacerse reaccionar simultáneamente con el compuesto de isocianato representado por la fórmula (1) para formar estructuras de urea y así incorporar tales estructuras en la estructura de la resina de poliuretano. :

En las fórmulas anteriores, R106, R106 & # x2032 pueden ser iguales o diferentes y cada uno representa un átomo de hidrógeno o un grupo alquilo, aralquilo o arilo, que puede tener un sustituyente (como un grupo alcoxi, éster o carboxilo o un átomo de halógeno (& # x2014F, & # x2014Cl, & # x2014Br, & # x2014I)) y preferiblemente un átomo de hidrógeno o un grupo alquilo que tiene de 1 a 8 átomos de carbono o un grupo arilo que tiene de 6 a 15 átomos de carbono, que puede estar sustituido con un grupo carboxilo. L17 representa un grupo hidrocarburo alifático divalente, un grupo hidrocarburo aromático o un grupo heterocíclico, que puede tener un sustituyente (como grupos alquilo, aralquilo, arilo, alcoxi, ariloxi o átomos de halógeno (& # x2014F, & # x2014Cl, & # x2014Br, & # x2014I)). L17 puede comprender, si es necesario, otros grupos funcionales, que no son reactivos con grupos isocianato, tales como grupos carbonilo, éster, uretano o amida. Además, dos de R106, L8, R106 & # x2032 pueden unirse para formar un anillo.

Los ejemplos específicos de los compuestos representados por la Fórmula (31) o (32) incluyen los enumerados a continuación:

Más específicamente, ejemplos de tales compuestos son compuestos de diamina alifática tales como etilen-diamina, propilen-diamina, tetrametilen-diamina, penta-metilen-diamina, hexametilen-diamina, heptametilen-diamina, octametilen-diamina, dodeca-metilen-diamina, propano -1,2-diamina, bis (3-aminopropil) metilamina, 1,3-bis (3-aminopropil) tetrametilsiloxano, piperazina, 2,5-dimetil piperazina, N- (2-aminoetil) piperazina, 4-amino -2,2,6,6-tetrametilpiperidina, N, N-dimetil etilendiamina, lisina, L-cistina y compuestos diamina aromáticos de isoforona-diamina tales como o-fenilendiamina, m-fenilendiamina, p-fenilendiamina , 2,4-tolilen-diamina, bencidina, o-di-toluidina, o-di-anisidina, 4-nitro-m-fenilen-diamina, 2,5-dimetoxi-p-fenilendiamina, bis (4-aminofenil) sulfona , 4-carboxi-o-fenilendiamina, 3-carboxi-m-fenilendiamina, 4,4 & # x2032-diaminofenil éter y compuestos de amina heterocíclica 1,8-naftalenodiamina tales como 2-amino-imidazol, 3-aminotriazol, 5-amino- 1H-t etrazol, 4-aminopirazol, 2-aminobenz-imidazol, 2-amino-5-carboxitriazol, 2,4-diamino-6-metil-S-triazina, 2,6-diamino-piridina, L-histidina, DL- triptófano y adenina y aminoalcoholes o compuestos de aminofenol como etanolamina, N-metil etanolamina, N-etil etanol-amina, 1-amino-2-propanol, 1-amino-3-propanol, 2-aminoetoxi etanol, 2 -aminotio-etoxi etanol, 2-amino-2-metil-1-propanol, p-aminofenol, m-aminofenol, o-aminofenol, 4-metil-2-aminofenol, 2-cloro-4-aminofenol, 4-metoxi- 3-aminofenol, 4-hidroxibencilamina, 4-amino-1-naftol, ácido 4-aminosalicílico, 4-hidroxi-N-fenil-glicina, alcohol 2-amino-bencílico, alcohol 4-amino-fenetílico, 2 -carboxi-5-amino-1-naftol y L-tirosina.

La resina de poliuretano utilizada en la presente invención se puede sintetizar dispersando los compuestos de isocianato y diol anteriores en un disolvente aprótico, añadiendo a la dispersión un catalizador conocido que tenga una actividad correspondiente a la reactividad de los compuestos de partida y luego calentando el sistema de reacción. . La relación molar del compuesto de diisocianato (i) a la suma de los compuestos de diol (la suma de los compuestos (ii), (iii) y (iv)) o la relación molar del compuesto de diisocianato (i) a la suma de los compuestos distintos del compuesto de diisocianato (la cantidad molar total de los compuestos (ii), (iii), (iv) y (v)) en caso de que el sistema de reacción comprenda arbitrariamente otros componentes o grupos amino -que contienen compuestos (v) preferiblemente en el intervalo de 0,8: 1 a 1,2: 1. A este respecto, si los grupos isocianato permanecen en los extremos del polímero resultante, el polímero se trata con alcoholes o aminas para sintetizar así finalmente una resina de poliuretano libre de cualquier grupo isocianato restante.

Entre los aglutinantes de resina de poliuretano utilizados en la capa sensible a la luz de la presente invención como componente esencial, se prefieren las resinas de poliuretano que comprenden grupos carboxilo en una cantidad que varía de 0,2 a 4,0 meq / g, preferiblemente de 0,3 a 3,0 meq / g, más preferiblemente 0,4 a 2,0 meq / g, particularmente preferiblemente 0,5 a 1,5 meq / gy lo más preferiblemente 0,6 a 1,2 meq / g.

  • al menos dos compuestos de diisocianato o una combinación de al menos un compuesto de diisocianato alifático (L es un grupo alifático) y al menos un compuesto de diisocianato aromático (L es un grupo aromático),
  • al menos un compuesto de diol que tiene un grupo carboxilo representado por la fórmula general (2),
  • & # x2003 en donde, R1 representa un átomo de hidrógeno o un grupo alquilo, aralquilo, arilo, alcoxi o ariloxi, que puede tener un sustituyente, y L10, L11 y yo12 pueden ser iguales o diferentes y cada uno representa un enlace sencillo o un grupo hidrocarburo alifático o aromático divalente, que puede tener un sustituyente,
  • al menos un compuesto de diol cuyo valor de log P varía de & # x22125 a & # x22121.2, y
  • al menos un compuesto de diol cuyo valor de log P varía de 3 a 10.

Estas resinas de poliuretano pueden usarse solas o en forma de cualquier mezcla.

El contenido de estas resinas de poliuretano incluidas en la composición sensible a la luz varía de 10 a 90% en masa, preferiblemente de 15 a 80% en masa, más preferiblemente de 20 a 70% en masa, más preferiblemente de 25 a 60% en masa y lo más preferiblemente 30 a 50% en masa.

i) Como ejemplos específicos de resinas de poliuretano más preferiblemente utilizadas en el presente documento, se pueden enumerar los siguientes compuestos, pero la presente invención no se limita en absoluto a estos ejemplos específicos. La mayoría de los ejemplos específicos de los mismos están indicados o especificados por las combinaciones de compuestos diisocianato y compuestos diol utilizados. Además, el contenido de grupos carboxilo se expresa en términos de índice de acidez.

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(iii) Compuestos de diol que tienen un valor log P de menos de 0

La capa fotosensible de la placa de PS de la presente invención puede comprender polímeros orgánicos adicionales solubles o hinchables en una solución alcalina acuosa además del aglutinante de resina de poliuretano descrito anteriormente. Por ejemplo, el uso de un polímero orgánico soluble en agua permite desarrollar la capa fotosensible con agua.

Ejemplos de tales polímeros orgánicos incluyen polímeros de adición que tienen un grupo carboxilo en la cadena lateral de los mismos, tales como copolímeros de ácido metacrílico, copolímeros de ácido acrílico, copolímeros de ácido itacónico, copolímeros de ácido crotónico, copolímeros de ácido maleico y copolímeros de ácido maleico parcialmente esterificados como se describe en JP KOKAI Nos. Sho 59-44615, Sho 54-92723, Sho 59-53836 y Sho 59-71048, y JP KOKOKU Nos. Sho 54-34327, Sho 58-12577 y Sho 54-25957.

Además, se incluyen derivados de celulosa ácidos que tienen un grupo carboxilo en su cadena lateral. Además de lo anterior, también se pueden usar polímeros obtenidos mediante la adición de un anhídrido de ácido cíclico a un polímero de adición que tiene un grupo hidroxilo.

Entre los polímeros que son preferibles se encuentran los copolímeros de (met) acrilato de bencilo, ácido (met) acrílico y otros monómeros de vinilo polimerizables por adición opcionales y copolímeros de (met) acrilato de alilo, ácido (met) acrílico y otros monómeros de vinilo polimerizables por adición opcionales . Además, la polivinilpirrolidona y el óxido de polietileno son útiles como polímeros orgánicos solubles en agua. Las poliamidas solubles en alcohol y los poliéteres de 2,2-bis- (4-hidroxifenil) -propano con epiclorhidrina también son útiles como componente (b) para aumentar la resistencia de la película curada.

Además, las resinas de poliuretano descritas en JP KOKOKU Nos. Hei 7-120040, Hei 7-120041, Hei 7-120042 y Hei 8-12424, y JP KOKAI Nos. Sho 63-287944, Sho 63-287947, Hei 1-271741 y Hei 11-352691 también son útiles en la presente invención.

La resistencia de la película curada de la capa sensible a la luz se puede mejorar introduciendo un grupo reactivo de radicales en la cadena lateral del polímero mencionado anteriormente. Ejemplos de los grupos funcionales que pueden causar fácilmente una reacción de polimerización por adición son grupos de enlace etilénicamente insaturados, grupos amino y grupos epoxi. estructura y estructura de la sal de onio y ejemplos de grupos polares son el grupo carboxilo y el grupo imida. Los grupos de enlace etilénicamente insaturados tales como el grupo acrilo, el grupo metacrilo, el grupo alilo y el grupo estirilo son particularmente preferibles como los grupos funcionales que pueden causar fácilmente la reacción de polimerización por adición y, además, otros grupos funcionales seleccionados del grupo que consiste en un grupo amino, También son útiles el grupo hidroxilo, el grupo ácido fosfónico, el grupo ácido fosfórico, el grupo carbamoílo, el grupo isocianato, el grupo ureido, el grupo ureileno, el grupo ácido sulfónico y el grupo amonio.

Es preferible que el aglutinante de resina de poliuretano mencionado anteriormente se controle para que tenga un peso molecular y un índice de acidez apropiados con el fin de mantener el rendimiento de revelado de una composición fotopolimerizable. En consideración al desarrollo usando el revelador de la presente invención, es preferible usar cualquiera de los polímeros mencionados anteriormente con un peso molecular promedio en peso (por método GPC, patrón de poliestireno) de 5.000 a 500.000, preferiblemente de 10.000 a 30.000. y más preferiblemente de 20.000 a 150.000. Si el peso molecular medio ponderado es inferior a 5.000, la durabilidad de impresión de la placa PS sería insuficiente, mientras que el peso molecular medio ponderado supera los 500.000, el rendimiento de revelado se deterioraría y provocaría la formación de espuma.

Un índice de ácido preferido del aglutinante de resina de poliuretano está en el intervalo de 0,2 a 4,0 meq / g, preferiblemente de 0,3 a 3,0 meq / g, más preferiblemente de 0,4 a 2,0 meq / g, específicamente de 0,5 a 1,5 meq / gy lo más preferiblemente de 0,6 a 1,2 meq / g. Si el índice de ácido es inferior a 0,2 meq / g, la espuma de la plancha de impresión litográfica se produce debido a un rendimiento de revelado insuficiente, mientras que el índice de ácido supera los 6,0 meq / g, la durabilidad de impresión de la plancha de PS se deterioraría.

[Valor ácido de la capa sensible a la luz]

El índice de acidez de la capa fotosensible a la que se hace referencia en la presente invención es una cantidad equivalente a un ácido con un pKa de 9 o menos contenido en unidades por gramo de la capa fotosensible que se proporciona sobre el sustrato. En el cálculo del índice de acidez, no se tienen en cuenta las capas de revestimiento que incluyen una capa de barrera al oxígeno, que se proporcionan sobre la capa sensible a la luz. El índice de acidez de la capa sensible a la luz puede obtenerse experimentalmente por titulación usando una solución acuosa de hidróxido de sodio, y también por cálculo del contenido total de compuestos que tienen grupos ácidos con pKa de 9 o menos en la composición fotopolimerizable.

El índice de acidez de la capa sensible a la luz se puede controlar cambiando la proporción de cantidad del monómero del agente de reticulación a la del polímero aglutinante que tiene un grupo ácido, o empleando un polímero aglutinante de bajo índice de acidez que contiene una cantidad menor de grupo ácido.

En el último caso, el uso de un polímero aglutinante con un índice de acidez que varía de 0,2 a 4,0 meq / g, más preferiblemente de 0,3 a 3,0 meq / g, más preferiblemente de 0,4 a 2,0 meq / g, específicamente de 0,5 a 1,5 meq / g. / gy lo más preferiblemente de 0,6 a 1,2 meq / g, es eficaz.

Es preferible que la capa sensible a la luz de la placa de PS para su uso en la presente invención tenga un índice de acidez de 1,0 meq / go menos, más preferiblemente en el rango de 0,20 a 0,60 meq / g a la luz de la aplicación a la placa de impresión litográfica, y más preferiblemente en el intervalo de 0,30 a 0,50 meq / g en términos de rendimiento de formación de imágenes.

Dicho polímero orgánico se puede incorporar a la composición fotopolimerizable en cualquier cantidad adecuada. Sin embargo, si la cantidad de polímero orgánico excede el 90%, surgirán problemas indeseables, por ejemplo, la fuerza de las imágenes formadas por revelado puede ser insuficiente. A la luz de esto, la cantidad de polímero orgánico está preferiblemente en el intervalo del 10 al 90%, más preferiblemente del 30 al 80%. Es preferible que la relación en peso del compuesto fotopolimerizable etilénicamente insaturado al polímero orgánico esté en el intervalo de 1: 9 a 9: 1, más preferiblemente de 2: 8 a 8: 2, y más preferiblemente de 3: 7 a 7: 3. .

A continuación, se describirá el componente (b). El componente (b), es decir, un compuesto que tiene al menos un doble enlace etilénicamente insaturado polimerizable por adición se puede seleccionar libremente del grupo que consiste en compuestos que tienen al menos uno, preferiblemente dos o más enlaces etilénicamente insaturados.

El componente (b) puede estar en cualquier forma, tal como un monómero, un prepolímero que incluye un dímero, trímero y oligómero, o una mezcla y copolímero de los mismos.

Ejemplos de los monómeros mencionados anteriormente y sus copolímeros incluyen ésteres de ácidos carboxílicos insaturados tales como ácido acrílico, ácido metacrílico, ácido itacónico, ácido crotónico, ácido isocrotónico y ácido maleico con compuestos de alcohol polihídrico alifático y amidas de compuestos de amina polivalente alifática con ácidos carboxílicos insaturados. .

  • acrilatos tales como diacrilato de etilenglicol, diacrilato de trimetilenglicol, diacrilato de 1,3-butanodiol, diacrilato de tetrametilenglicol, diacrilato de propilenglicol, diacrilato de neopentilglicol, triacrilato de trimetilolpropano, tri (acriloiloxipropilato-diacrilato de trimetilolpropano, trimetilolpropano-tri (acriloiloxipropilatoxipropilato) ciclohexanodiol, diacrilato de tetraetilenglicol, diacrilato de pentaeritritol diacrilato, pentaeritritol triacrilato, pentaeritritol tetraacrilato, dipentaeritritol diacrilato, dipentaeritritol pentaacrilato, hexaacrilato de dipentaeritritol, sorbitol triacrilato, sorbitol tetraacrilato, sorbitol pentaacrilato, sorbitol hexaacrilato, tri (acriloiloxietil) oligómeros isocianurato, y acrilato de poliéster
  • metacrilatos tales como dimetacrilato de tetrametileno, trimetileno glicol dimetacrilato, neopentil glicol dimetacrilato, trimetacrilato de trimetilolpropano, trimetacrilato de trimetiloletano, dimetacrilato de etilenglicol, 1,3-butanodiol, dimetacrilato de hexanodiol, dimetacrilato de pentaeritritol, dimetacrilato de pentaeritritol trimetacrilato, pentaeritritol tetrametacrilato, dipentaeritritol dimetacrilato, dipentaeritritol hexametacrilato, sumergir pentametacrilato de entaeritritol, trimetacrilato de sorbitol, tetrametacrilato de sorbitol, bis [p- (3-metacriloxi-2-hidroxipropoxi) fenil] dimetilmetano y bis [p- (metacriloxietoxi) fenil] dimetilmetano
  • itaconatos tales como diitaconato de etilenglicol, diitaconato de propilenglicol, diitaconato de 1,3-butanodiol, diitaconato de 1,4-butanodiol, diitaconato de tetrametilenglicol, diitaconato de pentaeritritol y tetraitaconato de sorbitol
  • crotonatos tales como dicrotonato de etilenglicol, dicrotonato de tetrametilenglicol, dicrotonato de pentaeritritol y tetradicrotonato de sorbitol
  • isocrotonatos tales como diisocrotonato de etilenglicol, diisocrotonato de pentaeritritol y tetraisocrotonato de sorbitol
  • maleatos tales como dimaleato de etilenglicol, dimaleato de trietilenglicol, dimaleato de pentaeritritol y tetramaleato de sorbitol y
  • mezclas de los monómeros éster mencionados anteriormente.

Los ejemplos específicos de los monómeros de amida preparados a partir de los compuestos de amina polivalente alifáticos y los ácidos carboxílicos insaturados incluyen metilenbis-acrilamida, metilenbis-metacrilamida, 1,6-hexametilenbis-acrilamida, 1,6-hexametilenbis-metacrilamida, dietilentriamino trisacrilamida, xililidenbis-acrilamida, y xililenbismetacrilamida.

Los ejemplos del componente (b) incluyen además compuestos de viniluretano, cada uno con al menos dos grupos vinilo polimerizables en su molécula, obtenidos mediante la adición de un monómero de vinilo que tiene un grupo hidroxilo representado por la siguiente fórmula general (X) a un compuesto de poliisocianato que tiene al menos dos grupos isocianato en la molécula del mismo como se describe en la publicación de patente japonesa con fines de oposición (en lo sucesivo, & # x201cJ.P. KOKOKU) No. Sho 48-41708:
CH2& # x2550C (R40) COOCH2CH (R50) OH & # x2003 & # x2003 (X)
donde R40 y R50 son cada uno independientemente H o CH3.

Además, otros ejemplos del componente (a) para su uso en la presente invención son acrilatos de uretano como se describe en JP KOKAI No. Sho 51-37193 y JP KOKOKU No. Hei 2-32293 acrilatos de poliéster como se describe en JP KOKAI No. Sho 48 -64183 y JP KOKOKU Nos. Sho 49-43191 y Sho 52-30490 (met) acrilatos polifuncionales tales como epoxi acrilatos obtenidos mediante reacciones de resinas epoxi con ácido (met) acrílico y monómeros y oligómeros fotocurables descritos en Journal of Japan Adhesion Society, 1984, vol. 20, núm. 7, págs. 300 & # x2013308.

La cantidad del componente (a) varía adecuadamente del 5 al 70% en peso (de aquí en adelante simplemente denominado & # x201c% & # x201d), preferiblemente del 10 al 50% basado en el peso total de los componentes totales.

El componente (c) para usar en la capa sensible a la luz de la placa de PS es un iniciador de fotopolimerización. Dependiendo de la longitud de onda de la luz emitida por la fuente de luz empleada, el iniciador de fotopolimerización puede seleccionarse apropiadamente de una variedad de iniciadores de fotopolimerización bien conocidos en patentes y referencias. Además, se pueden usar dos o más iniciadores de polimerización en combinación para preparar un sistema iniciador combinado.

Se proponen algunos sistemas iniciadores combinados para hacer frente a las fuentes de luz de luz visible con una longitud de onda de 400 nm o más, láser Ar, segunda onda armónica de láser semiconductor y láser SHG-YAG. Por ejemplo, la patente de EE.UU. 2.850.445 describe ciertos tintes capaces de provocar fotorreducción tales como Rosa de Bengala, Eosina y Eritrosina. Además, los sistemas iniciadores combinados que utilizan un tinte y un iniciador son los siguientes: un sistema iniciador compuesto de un tinte y una amina (JP KOKOKU No. Sho 44-20189) un sistema combinado de hexaarilbiimidazol, un generador de radicales y un tinte (JP KOKOKU No. Sho 45-37377) un sistema de hexaarilbiimidazol y p-dialquilaminobenciliden cetona (JP KOKOKU No. Sho 47-2528 y JP KOKAI No. Sho 54-155292) un sistema que comprende un compuesto cíclico cis - & # x3b1-dicarbonilo y un tinte (JP KOKAI No. Sho 48-84183) un sistema que comprende una triazina cíclica y un tinte de merocianina (JP KOKAI No. Sho 54-151024) un sistema que comprende un compuesto de 3-cetocumarina y un activador (JP KOKAI No. Sho 52- 112681 y Sho 58-15503) un sistema que comprende biimidazol, un derivado de estireno y un tiol (JP KOKAI No. Sho 59-140203) un sistema que comprende un peróxido orgánico y un colorante (JP KOKAI No. Sho 59-1504, Sho 59 -140203, Sho 59-189340 y Sho 62-174203, JP KOKOKU No. Sho 62-1641, y Patente de Estados Unidos No. 4.766.055) un sistema que comprende mezclar un tinte y un compuesto halógeno activo (J.P. KOKAI Nos. Sho 63-258903 y Hei 2-63054) un sistema que comprende un tinte y un compuesto de borato (JP KOKAI Nos. Sho 62-143044, Sho 62-150242, Sho 64-13140, Sho 64-13141, Sho 64- 13142, Sho 64-13143, Sho 64-13144, Sho 64-17048, Hei 1-229003, Hei 1-298348 y Hei 1-138204) un sistema que comprende un tinte con un anillo de rodanina y un generador de radicales (JP KOKAI Nos. Hei 2-179643 y Hei 2-244050) un sistema que comprende titanoceno y un colorante de 3-cetocumarina (JP KOKAI No. Sho 63-221110) un sistema que comprende titanoceno, un colorante de xanteno y un compuesto etilénicamente insaturado polimerizable por adición que tiene un grupo amino o grupo uretano (JP KOKAI Nos. Hei 4-221958 y Hei 4-219756) un sistema que comprende titanoceno y un tinte de merocianina particular (JP KOKAI No. Hei 6-295061) y un sistema que comprende titanoceno, un tinte que tiene un anillo de benzopirano (JP KOKAI No. Hei 8-334897) y similares.

De los sistemas iniciadores mencionados anteriormente, los sistemas que usan compuestos de titanoceno son particularmente preferidos debido a su excelente sensibilidad.

Los compuestos de titanoceno pueden seleccionarse apropiadamente, por ejemplo, de una variedad de compuestos de titanoceno como se describe en J.P. KOKAI Nos. Sho 59-152396 y Sho 61-151197.

Ejemplos específicos de tales compuestos de titanoceno son los siguientes: dicloruro de diciclopentadienil-Ti, dicloropentadienil-Ti-bis-fenilo, di-ciclopentadienil-Ti-bis-2,3,4,5,6-pentafluorofen- 1-ilo, diciclopentadienil-Ti-bis-2,3,5,6-tetrafluorofen-1-ilo, di-ciclopentadienil-Ti-bis-2,4,6-trifluorofen-1-ilo, diciclopentadienil- Ti-bis-2,6-di-fluorofen-1-ilo, di-ciclopentadienil-Ti-bis-2,4-di-fluorofen-1-ilo, di-metilciclopentadienil-Ti-bis-2,3,4, 5,6-tetrafluorofen-1-ilo, di-metilciclopentadienil-Ti-bis-2,6-difluorofen-1-ilo y di-ciclopentadienil-Ti-bis-2,6-difluoro-3- (pirro-1- yl) -fen-1-ilo.

Además, se pueden añadir algunos auxiliares tales como un compuesto de amina y un compuesto de tiol al iniciador de fotopolimerización cuando sea necesario. La adición de tales compuestos donantes de hidrógeno puede mejorar el rendimiento del iniciador de fotopolimerización empleado.

La cantidad de iniciador de fotopolimerización está convenientemente en el intervalo de 0,05 a 100 partes en peso, preferiblemente de 0,1 a 70 partes en peso, y más preferiblemente de 0,2 a 50 partes en peso, con respecto a 100 partes en peso del compuesto etilénicamente insaturado.

Además de los componentes fundamentales anteriores (a), (b) y (c), es deseable que una pequeña cantidad de inhibidor de polimerización térmica esté contenida en la composición fotopolimerizable para inhibir la polimerización térmica no deseada del compuesto polimerizable etilénicamente insaturado durante la preparación o almacenamiento del producto. composición fotopolimerizable. Ejemplos de tales inhibidores de polimerización térmica incluyen hidroquinona, p-metoxifenol, di-t-butil-p-cresol, pirogalol, t-butil catecol, benzoquinona, 4,4 & # x2032-tiobis (3-metil-6-t-butilfenol) , Sal de cerio de 2,2 & # x2032-metilenbis (4-metil-6-t-butilfenol), N-nitrosofenil hidroxilamina y sal de aluminio de N-nitrosofenil hidroxilamina. La cantidad de inhibidor de polimerización térmica es preferiblemente de aproximadamente 0,01 a aproximadamente 5% en base al peso total de la composición fotopolimerizable. Además, la composición fotopolimerizable puede comprender opcionalmente, por ejemplo, derivados de ácidos grasos superiores tales como ácido behénico y amida de ácido behénico cuando sea necesario. Para eliminar eficazmente el efecto inhibidor de la polimerización del oxígeno, tales derivados de ácidos grasos superiores pueden localizarse en la parte de la superficie de la capa fotosensible en la etapa de secado para la formación de la capa fotosensible. La cantidad de derivados de ácidos grasos superiores es preferiblemente de aproximadamente 0,5 a aproximadamente 10% en base al peso total de la composición fotopolimerizable.

Además, la composición puede comprender además un agente colorante para pigmentar la capa sensible a la luz resultante. Los ejemplos del agente colorante incluyen pigmentos tales como pigmentos de ftalocianina (C.I.Pigment Blue 15: 3, 15: 4, 15: 6 y similares), pigmentos azo, negro de humo y óxido de titanio y tintes como Ethyl Violet, Crystal Violet, tintes azo, tintes de antraquinona y tintes de cianina. La cantidad de agente colorante que incluye tales pigmentos y tintes es preferiblemente de aproximadamente 0,5 a aproximadamente 20% en base al peso total del contenido de sólidos en la capa sensible a la luz obtenida.

Además, la composición fotopolimerizable puede comprender además cargas inorgánicas y plastificantes tales como ftalato de dioctilo, ftalato de dimetilo y fosfato de tricresilo para mejorar las propiedades físicas de la película curada resultante. La cantidad de tales aditivos, incluidas las cargas inorgánicas y plastificantes, es preferiblemente del 10% o menos del peso total del contenido sólido en la capa sensible a la luz obtenida.

Para proporcionar la capa sensible a la luz sobre un sustrato, que se describirá más adelante, la composición fotopolimerizable se disuelve en varios tipos de disolventes orgánicos para preparar un líquido de revestimiento y luego el líquido de revestimiento se aplica sobre la superficie del sustrato. Los ejemplos de disolventes incluyen acetona, metiletilcetona, ciclohexano, acetato de etilo, dicloruro de etileno, tetrahidrofurano, tolueno, éter monometílico de etilenglicol, éter monoetílico de etilenglicol, éter dimetílico de etilenglicol, éter monometílico de propilenglicol, éter monoetílico de propilenglicol, acetilacetona, ciclohexanona, diacetona alcohol, etilenglicol monometil éter acetato, etilenglicol etil éter acetato, etilenglicol monoisopropil éter, etilenglicol monobutil éter acetato, 3-metoxipropanol, metoximetoxietanol, dietilenglicol monometil éter, dietilenglicol monoetil éter, dietilenglicol monoetil éter éter dietílico de glicol, acetato de éter monometílico de propilenglicol, acetato de éter monoetílico de propilenglicol, acetato de 3-metoxipropilo, N, N-dimetilformamida, dimetilsulfóxido, & # x3b3-butirolactona, lactato de metilo y lactato de etilo. Estos disolventes se pueden utilizar solos o combinados. La concentración del contenido sólido en el líquido de revestimiento es de forma adecuada del 1 al 50% en peso.

Para mejorar la calidad superficial de la superficie revestida, la composición fotopolimerizable para usar en la capa sensible a la luz puede comprender además un tensioactivo.

Cuando se aplica el líquido de recubrimiento para la capa sensible a la luz, la cantidad de recubrimiento es preferiblemente de aproximadamente 0,1 a aproximadamente 10 g / m 2, preferiblemente de 0,3 a 5 g / m 2, y más preferiblemente de 0,5 a 3 g / m 2. , después de que se seque.

Se puede usar cualquier material en forma de placa dimensionalmente estable como sustratos para la placa de PS para uso en la presente invención. A la luz de la estabilidad dimensional, se prefieren particularmente los sustratos de aluminio. Pueden usarse placas de aluminio compuestas sustancialmente de aluminio y aleaciones que contienen aluminio, por ejemplo, aleaciones de aluminio con metales tales como silicio, cobre, manganeso, magnesio, cromo, zinc, plomo, bismuto y níquel. Alternativamente, se puede unir una hoja de aluminio o de aleación de aluminio a una hoja de papel o una película de plástico para formar una hoja laminada, o se pueden depositar sobre ella aluminio o aleaciones de aluminio. Además, una hoja compuesta obtenida uniendo una hoja de aluminio a una película de tereftalato de polietileno como se describe en J.P. KOKOKU No. Sho 48-18327 también se usa preferiblemente como sustrato de la placa PS.

Dichos sustratos de aluminio se someten a varios tipos de tratamientos superficiales.

Uno de los métodos de tratamiento de superficies para los sustratos de aluminio es el granulado, es decir, granulado mecánico de la superficie, grabado químico, granulado electrolítico como se describe en J.P. KOKAI No. Sho 56-28893. Para ser más específico, la superficie del sustrato de aluminio puede granularse electroquímicamente en una solución electrolítica que comprende ácido clorhídrico o ácido nítrico. Alternativamente, la superficie de aluminio puede someterse a un granulado mecánico tal como un granulado con cepillo de alambre frotando la superficie de aluminio con un granulado de bolas de alambre metálico usando la combinación de bola abrasiva y material abrasivo y granulado con cepillo usando un cepillo de nailon y un agente abrasivo. Tales métodos de granulación de la superficie se pueden usar solos o en combinación.

De los métodos antes mencionados para dar rugosidad a la superficie de aluminio en un grado predeterminado, el granulado electroquímico de la superficie en una solución electrolítica de ácido clorhídrico o ácido nítrico es particularmente eficaz en la presente invención. En este caso, la carga eléctrica está convenientemente en el rango de 100 a 400 C / dm2. Más específicamente, el sustrato de aluminio puede colocarse en una solución electrolítica que contenga de 0,1 a 50% de ácido clorhídrico o ácido nítrico y la electrólisis se puede llevar a cabo a una temperatura de 20 a 100 ° C durante un segundo a 30 minutos con el Carga eléctrica controlada de 100 a 400 C / dm 2.

El sustrato de aluminio granulado de la manera antes mencionada puede someterse a un ataque químico con ácidos o álcalis. El uso de álcalis como grabador es ventajoso para aplicaciones industriales porque el tiempo requerido para destruir la estructura fina puede reducirse en comparación con el uso de ácidos. Los ejemplos preferibles de los álcalis para usar en el grabado son hidróxido de sodio, carbonato de sodio, aluminato de sodio, metasilicato de sodio, fosfato de sodio, hidróxido de potasio e hidróxido de litio. Es preferible controlar la concentración del álcali en el grabador de 1 a 50% y la temperatura del grabador de 20 a 100 & # xb0 C. de modo que la cantidad de aluminio a disolver en el grabador esté en el rango de 5 a 20 g / m 3.

La superficie de aluminio grabada puede someterse a un decapado para eliminar la suciedad que queda en la superficie grabada. Para el decapado se emplean preferentemente ácido nítrico, ácido sulfúrico, ácido fosfórico, ácido crómico, ácido fluorhídrico, ácido fluorobórico. En particular, después del granulado electroquímico de la superficie, un método para poner la superficie de aluminio grabada en contacto con una solución de ácido sulfúrico al 15% en peso a una temperatura de 50 a 90 ° C como se describe en JP KOKAI No. Sho 53-12739 es uno de los métodos preferibles para eliminar el tizón después del grabado. También es deseable el método de grabado con álcali como se describe en J.P. KOKOKU No. Sho 48-28123.

En consecuencia, el sustrato de Al para uso en la presente invención está adecuadamente acabado para tener una rugosidad superficial de 0,3 a 0,7 & # x3 bcm en términos de (Ra).

Además, la superficie de aluminio así tratada se somete luego a anodización. La anodización se puede realizar de acuerdo con los métodos bien conocidos en este campo. Más específicamente, se aplica una corriente continua o corriente alterna al sustrato de aluminio en una solución acuosa o no acuosa de ácido clorhídrico, ácido sulfúrico, ácido fosfórico, ácido nítrico, ácido crómico, ácido bórico, ácido oxálico, ácido sulfámico, ácido bencenosulfónico, o mezclas de los mismos, de modo que se deposite una capa anodizada sobre la superficie del sustrato de aluminio.

Las condiciones de anodización no se pueden determinar definitivamente porque las condiciones varían dependiendo de la solución electrolítica a emplear. En general, es adecuado que la concentración de la solución electrolítica oscile entre el 1 y el 80%, la temperatura del líquido entre 5 y 70 & # xb0 C., la densidad de corriente se controle entre 0,5 y 60 A / dm 2, el voltaje aplicado esté en el rango de 1 a 100 V, y el tiempo de electrólisis es de 10 a 100 segundos.

Uno de los métodos de anodización preferidos se describe en la Patente Británica No. 1.412.768 donde la anodización se realiza en ácido sulfúrico a alta densidad de corriente, y el otro método es usar un baño electrolítico de ácido fosfórico como se describe en la Patente de EE.UU. Nº 3.511.661.

En la presente invención, es preferible que la capa anodizada depositada sobre el sustrato de aluminio por anodización tenga un espesor de 1 a 10 g / m 2, más preferiblemente de 1,5 a 7 g / m 2, y más preferiblemente de 2 a 5 g / m 2. 2. Cuando el espesor de la capa anodizada antes mencionada es menor de 1 g / m 2, la placa de PS resultante puede ser susceptible a rayones, mientras que se requiere una cantidad extremadamente grande de energía eléctrica para producir la capa anodizada con un espesor de más de 10 g / m 2.

Además, después del granulado de la superficie y la anodización, el sustrato de aluminio puede someterse a un sellado. Para sellar, el sustrato de aluminio se sumerge en agua caliente o una solución acuosa caliente de una sal orgánica o inorgánica, o se coloca en un baño de vapor. La superficie de aluminio puede someterse a otro tratamiento de superficie tal como un tratamiento de silicato usando silicatos de metales alcalinos, o inmersión en una solución acuosa de fluorocirconato o fosfato de potasio.

Además de los sustratos de aluminio mencionados anteriormente, también se pueden usar otros materiales en forma de placa con estabilidad dimensional como sustratos para la placa de PS. Ejemplos de tales materiales en forma de placa dimensionalmente estables incluyen papel, láminas de papel laminado con plásticos como polietileno, polipropileno y poliestireno, placas de metal como placas de zinc y cobre, películas de plástico como diacetato de celulosa, triacetato de celulosa, propionato de celulosa, butirato de celulosa , acetato butirato de celulosa, nitrato de celulosa, tereftalato de polietileno, polietileno, poliestireno, polipropileno, policarbonato y películas de acetal de polivinilo, y una hoja de papel o una película de plástico a la que se unen o sobre las placas de metal mencionadas anteriormente, tales como placas de zinc y cobre. que esos metales se depositan.

Dichos sustratos se someten preferiblemente a un tratamiento superficial para hacer que la superficie sea hidrófila de acuerdo con la naturaleza de cada sustrato. La superficie puede volverse hidrófila mediante tratamientos basados ​​en algunas reacciones químicas, como grabado, oxidación, reducción y recubrimiento de sol-gel. Alternativamente, se pueden revestir sobre el mismo compuestos particulares capaces de ser adsorbidos por la superficie del sustrato. En el último caso, por ejemplo, compuestos orgánicos que llevan un átomo de fósforo que contiene grupos ácidos, por ejemplo, ácido fosfórico, ácido fosfónico y ácido fosfínico, o compuestos orgánicos de silicona efectivamente contenidos en una capa adhesiva provista sobre el sustrato de aluminio como se describe en JP KOKAI. N ° 2001-109139 se utilizan preferiblemente para los sustratos de aluminio anodizado.

La placa de PS para usar en la presente invención se puede producir proporcionando la capa sensible a la luz sobre el sustrato.

La placa de PS puede comprender además una capa inferior orgánica o inorgánica que se interpone entre el sustrato y la capa sensible a la luz.

Además, la placa de PS para usar en la presente invención puede comprender además una capa protectora tal como una capa de barrera al oxígeno que comprende un polímero de vinilo soluble en agua como componente principal que se superpone sobre la capa sensible a la luz.

Ejemplos de polímeros vinílicos solubles en agua para usar en la capa protectora de barrera de oxígeno incluyen un alcohol polivinílico que puede estar parcialmente sustituido con éster, éter y acetal y un copolímero que comprende dicha unidad de alcohol vinílico parcialmente sustituida y una unidad de alcohol vinílico no sustituida en dicha capa. una cantidad sustancial que puede impartir la solubilidad en agua requerida al copolímero resultante. En la capa de protección se utilizan preferentemente alcoholes polivinílicos hidrolizados en una proporción de 71 a 100% y con un grado de polimerización de 300 a 2400. Ejemplos específicos de productos de alcohol polivinílico disponibles comercialmente son PVA-105, PVA-110, PVA-117, PVA-117H, PVA-120, PVA-124, PVA-124H, PVA-CS, PVA-CST, PVA-HC, PVA-203, PVA-204, PVA-205, PVA-210, PVA-217, PVA-220, PVA-224, PVA-217EE, PVA-220, PVA-224, PVA-217EE, PVA-217E, PVA- 220E, PVA-224E, PVA-405, PVA-420, PVA-613 y L-8, que son fabricados por KURARAY Co., Ltd. Ejemplos de los copolímeros mencionados anteriormente usados ​​preferiblemente en la capa de protección de barrera de oxígeno incluyen polivinilo acetato, cloroacetato o propionato, polivinil formal, polivinil acetal y copolímero de los mismos, que preferiblemente se hidrolizan en una proporción de 88 a 100%. Además de lo anterior, la polivinilpirrolidona, la gelatina y la goma arábiga también se utilizan eficazmente para la capa protectora de barrera contra el oxígeno. Estos polímeros se pueden usar solos o en combinación.

Cuando la capa protectora de barrera contra el oxígeno se proporciona mediante revestimiento, se usa preferiblemente agua purificada sola como disolvente o en combinación con alcoholes como metanol y etanol y cetonas como acetona y metiletilcetona. Es adecuado que el contenido de sólidos en el líquido de revestimiento para la formación de la capa protectora de barrera al oxígeno esté en el intervalo de 1 a 20% en peso.

La capa protectora de barrera al oxígeno puede comprender además aditivos conocidos tales como un tensioactivo para mejorar las características del revestimiento y un plastificante soluble en agua para mejorar las propiedades físicas de la capa obtenida.

Los ejemplos del plastificante soluble en agua mencionado anteriormente incluyen propionamida, ciclohexanodiol, glicerina y sorbitol. Pueden añadirse polímeros (met) acrílicos solubles en agua.

La cantidad de revestimiento para la capa protectora de barrera al oxígeno está convenientemente en el intervalo de aproximadamente 0,1 a aproximadamente 15 g / m 2, preferiblemente en el intervalo de aproximadamente 1,0 a aproximadamente 5,0 g / m 2 después de secarse.

[Proceso para hacer la plancha de impresión litográfica]

La placa de PS se puede calentar completamente, si es necesario, antes de la exposición a la luz, durante la exposición a la luz o desde el inicio de la exposición a la luz hasta la terminación del revelado. El calentamiento de la placa de PS como se mencionó anteriormente puede acelerar la reacción para la formación de imágenes en la capa sensible a la luz, mejorando así la sensibilidad y la durabilidad de la impresión y también estabilizando la sensibilidad. Después de la terminación del revelado, también es eficaz someter las imágenes obtenidas por revelado a un calentamiento total o una exposición total a la luz para mejorar la fuerza de las imágenes obtenidas y la durabilidad de la impresión. Cuando la placa de PS se calienta antes del revelado, la placa de PS se calienta preferiblemente en condiciones moderadas, más específicamente, a 150 ° C o menos. Cuando la placa de PS se calienta a temperaturas extremadamente altas, se producirán algunos problemas, por ejemplo, empañamiento de áreas sin imagen. Cuando la placa de PS se calienta después del revelado, las imágenes obtenidas se pueden calentar a altas temperaturas, generalmente en el rango de 200 a 500 & # xb0 C. Cuando la temperatura se establece dentro del rango mencionado anteriormente, el calentamiento después del revelado tiene un efecto sobre la fuerza de las imágenes sin deterioro del sustrato y descomposición térmica de las áreas de la imagen.

En la presente invención se puede utilizar cualquier método de exposición a la luz bien conocido en este campo. Se utilizan preferiblemente fuentes de luz para rayos láser. Por ejemplo, las fuentes de luz para rayos láser que tienen longitudes de onda en el rango de 350 a 450 nm son las siguientes:

láser de gas como láser Ar + (364 nm, 351 nm, 10 mW & # x2dc1 W), láser Kr + (356 nm, 351 nm, 10 mW & # x20131W) y láser He & # x2014Cd + (441 nm, 325 nm, 1 mW & # x2013100 mW)

láser de estado sólido como combinación de Nd: YAG (YVO4) y SHG (355 nm, 5 mW & # x20131W) y combinación de Cr: LiSAF y SHG (430 nm, 10 mW)

láser semiconductor como KNbO3, resonador de anillo (430 nm, 30 mW), combinación de dispositivo de conversión de longitud de onda óptica de guía de onda, semiconductor AlGaAs y semiconductor InGaAs (380 & # x2013450 nm, 5 & # x2013100 mW), combinación de dispositivo de conversión de longitud de onda óptica de guía de onda, semiconductor AlGaInP y semiconductor AlGaAs ( 300 & # x2013350 nm, 5 & # x2013100 mW) y AlGaInN (350 & # x2013450 nm, 5 & # x201330 mW) y

láser de pulso como N2 láser (337 nm, pulso: 0,1 & # x201310 mJ) y XeF (351 nm, pulso: 10 & # x2013250 mJ).

En particular, los rayos láser semiconductores AlGaInN (disponibles comercialmente como rayos láser semiconductores basados ​​en InGaN con longitudes de onda de 400 & # x2013410 nm y 5 & # x201330 mW) son preferibles en términos de características de longitud de onda y costo.

Como fuentes de luz para rayos láser con longitudes de onda de 450 a 700 nm, láser Ar + (488 nm), láser YAG-SHG (532 nm), láser He & # x2014Ne (633 nm), láser He & # x2014Cd y láser de color rojo láser semiconductor (650 & # x2013690 nm) están disponibles. Como fuentes de luz para rayos láser que tienen longitudes de onda de 700 a 1200 nm, se utilizan preferiblemente láser semiconductor (800 & # x2013850 nm) y láser Nd-YAG (1064 nm).

Además de lo anterior, también se puede emplear una variedad de fuentes de luz tales como lámparas de mercurio de presión ultra alta, alta presión, presión intermedia y baja presión, lámparas químicas, lámparas de arco de carbono, lámparas de xenón, lámparas de halogenuros metálicos y lámparas láser ultravioleta. (Láser excímero ArF, láser excímero KrF y similares). Además, también se pueden utilizar rayos radiales como haces de electrones, rayos X, haces de iones y rayos infrarrojos lejanos. En consideración al coste, son particularmente preferibles las fuentes de luz mencionadas anteriormente para rayos láser con longitudes de onda de 350 nm o más.

Cualquier mecanismo de exposición a la luz, por ejemplo, método de exposición de tambor interno, método de exposición de tambor externo o método de lecho plano, es aplicable a la presente invención.

Los componentes que constituyen la capa sensible a la luz de la placa de PS se pueden hacer solubles en agua neutra o en soluciones acuosas alcalinas débiles cuando esos componentes tienen una alta solubilidad en agua. Este tipo de placa de PS se puede montar en una máquina de impresión para lograr la exposición a la luz y el revelado sucesivamente para hacer una placa de impresión litográfica.

Después de completar el desarrollo, la placa de impresión puede someterse a varios tipos de postratamiento utilizando agua de enjuague, enjuagues que contienen tensioactivos y líquidos para la desensibilización que contienen goma arábiga y derivados de almidón como se describe en JP KOKAI Nos. Sho 54-8002, Sho . 55-115045 y Sho 59-58431. Tales métodos para el postratamiento se pueden emplear en combinación en la presente invención.

La plancha de impresión litográfica así obtenida se coloca en una prensa offset para producir un gran número de materiales impresos.

Los comportamientos en desarrollo se detallarán a continuación.

El & # x201crate of development & # x201d utilizado en este documento se puede determinar sumergiendo la placa de PS descrita en el Ejemplo 53 que se detallará a continuación en una variedad de reveladores a 28 & # xb0 C. sin someter la placa de PS a ninguna exposición de imagen para así determinar el tiempo necesario para la eliminación de la capa sensible a la luz y para la exposición del sustrato subyacente y para determinar la velocidad de desarrollo en términos del cambio en el espesor de la capa sensible a la luz en desarrollo. En este sentido, cuanto mayor sea la tasa de desarrollo, mayores y mejores serán las características de desarrollo de un desarrollador específico.
Tasa de desarrollo Área no expuesta = [Espesor de la capa sensible a la luz (& # x3bcm)] / [Tiempo necesario para completar el revelado (s)]
[Tasa de penetración del desarrollador]

La & # x201c Tasa de penetración del revelador & # x201d utilizada en este documento se puede determinar exponiendo a la luz la placa de PS descrita en el Ejemplo 53 que se detallará a continuación a un valor de exposición estándar utilizando varios tipos de fuentes de luz para la exposición y luego sumergiendo el placa de PS expuesta en una variedad de reveladores a 28 & # xb0 C. para así determinar cambios en la capacidad electrostática del revelador. Más específicamente, el tiempo requerido para la penetración de un revelador en la capa sensible a la luz y para poner el sustrato en contacto con el revelador se determina examinando el tiempo requerido para experimentar cualquier cambio en la capacidad electrostática (en caso de que sea difícil Para detectar cualquier punto de inflexión en la curva de capacidad electrostática, la tasa de penetración del revelador se evalúa determinando el tiempo necesario hasta que la capacidad electrostática alcanza 100 nF). La tasa de penetración del revelador en la dirección a lo largo del espesor de la capa fotosensible se puede calcular sobre la base del tiempo así determinado. A este respecto, cuanto menor sea la tasa de penetración del revelador, menor será la capacidad del revelador para penetrar en la capa sensible a la luz y mejor será la calidad del revelador.

A este respecto, en la figura 1 se muestran esquemáticamente un dispositivo para determinar la tasa de penetración del revelador y un gráfico en el que se representan los resultados obtenidos. 1 y FIG. 2, respectivamente.
Tasa de penetración del revelador en el área expuesta = [Espesor de la capa sensible a la luz (& # x3bcm)] / [Tiempo (s) en el que la capacidad electrostática sufre un cambio]
[Disolución e hinchazón de la capa sensible a la luz]

La & # x201c disolución (solubilización) y el hinchamiento de la capa sensible a la luz & # x201d utilizada aquí se determina sumergiendo la placa PS descrita en el Ejemplo 53 que se detallará a continuación en una variedad de reveladores a 30 & # xb0 C. sin someter la placa PS a cualquier exposición de imagen y luego examinar el comportamiento de disolución de la capa sensible a la luz utilizando un dispositivo de medición de ondas de interferencia DRM. En el caso de que el revelado se produzca sucesivamente desde la superficie de la capa fotosensible sin provocar ningún hinchamiento de la capa, el espesor de la capa fotosensible se reduce gradualmente con el transcurso del tiempo y esto da como resultado la generación de una capa fotosensible. onda de interferencia, que varía según el grosor de la capa sensible a la luz. Contrariamente a esto, en el caso del desarrollo acompañado de hinchazón de la capa fotosensible (disolución con la remoción de la capa), no se observa ninguna onda de interferencia clara debido a cambios en el espesor de la capa por la penetración de la capa. revelador en la capa.

Es deseable que se formen ondas de interferencia claras y que la disolución y el hinchamiento de la capa sensible a la luz se evalúen en este documento sobre la base de la presencia de una onda de interferencia.

A este respecto, un dispositivo de medición de ondas de interferencia DRM utilizado en la determinación de la disolución y el hinchamiento de la capa sensible a la luz y los resultados determinados se muestran esquemáticamente en la FIG. 3 y FIG. 4, respectivamente.

El revelador para una placa de PS fotopolimerizable de acuerdo con la presente invención (en lo sucesivo posiblemente denominado simplemente & # x201cdeveloper & # x201d) se explicará a continuación.

El revelador según la presente invención es fundamentalmente una solución acuosa alcalina que comprende al menos un silicato alcalino y el compuesto no iónico representado por la fórmula (I). En el revelador según la presente invención, una relación molar de SiO2/METRO2O se ajusta adecuadamente entre 0,75 y 4,0. El silicato alcalino se usa normalmente en combinación con una base, y el pH del revelador varía de 11,5 a 12,8, y preferiblemente de 11,8 a 12,5.

El silicato alcalino usado en el revelador de la presente invención incluye aquellos que muestran alcalinidad cuando se disuelven en agua, por ejemplo, silicato de sodio, silicato de potasio, silicato de litio y silicato de amonio. Tal silicato alcalino puede usarse solo o en combinación.

El rendimiento de revelado de la solución acuosa alcalina se puede modular fácilmente ajustando una proporción de mezcla de óxido de silicio (SiO2) y un óxido alcalino (M2O, donde M representa un metal alcalino o un grupo amonio) que son componentes del silicato alcalino, y concentraciones del mismo. En el revelador según la presente invención, una relación molar de SiO2/METRO2O se ajusta adecuadamente entre 0,75 y 4,0, y preferiblemente entre 1,0 y 3,0. Si la relación molar, SiO2/METRO2O es menor que 0,75, la alcalinidad de la solución aumentará y posiblemente causará un efecto dañino como el grabado de una placa de aluminio que se usa generalmente como sustrato de una placa de PS. Si la relación molar, SiO2/METRO2O es superior a 3,0, es posible que el rendimiento de desarrollo de la solución se degrade.

La concentración de silicato alcalino en el revelador varía generalmente de 0,1 a 3% en peso en términos de la cantidad de dióxido de silicio (SiO2), y preferiblemente de 0,5 a 2% en peso. Si dicha concentración es inferior al 0,1% en peso, el rendimiento de revelado o la capacidad de tratamiento pueden degradarse. Si dicha concentración es superior al 3% en peso, se pueden generar fácilmente precipitados o cristales, y se puede provocar fácilmente la gelificación durante la neutralización del líquido residual, lo que constituye un obstáculo para la eliminación del residuo.

La base que se usa en combinación con el silicato alcalino puede seleccionarse de agentes alcalinos conocidos que se usan convencionalmente en un revelador.

Los ejemplos de agentes alcalinos incluyen agentes alcalinos inorgánicos tales como hidróxido de sodio, hidróxido de potasio, hidróxido de litio, fosfato terciario de sodio, fosfato terciario de potasio, fosfato terciario de amonio, fosfato secundario de sodio, fosfato secundario de potasio, fosfato secundario de amonio, carbonato de sodio, carbonato de potasio, carbonato de amonio, bicarbonato de sodio, bicarbonato de potasio, bicarbonato de amonio, borato de sodio, borato de potasio y borato de amonio, y citrato de potasio, citrato de sodio y similares. El uso de combinación preferible de los agentes alcalinos anteriores es una combinación de un hidróxido de metal alcalino tal como hidróxido de sodio e hidróxido de potasio con un carbonato tal como carbonato de sodio y carbonato de potasio.

Los agentes alcalinos que se pueden utilizar también incluyen agentes alcalinos orgánicos tales como monometilamina, dimetilamina, trimetilamina, monoetilamina, dietilamina, trietilamina, monoisopropilamina, diisopropilamina, triisopropilamina, n-butilamina, monoetanolamina, dietanolamina, monoetanolamina, monoetanolamina, triletanodiprolamina, , hidróxido de tetrametilamonio y similares.

El agente alcalino anterior se puede usar solo o en combinación.

Entre estos agentes alcalinos, se prefieren el hidróxido de sodio y el hidróxido de potasio. Además, también son preferibles el fosfato terciario de sodio, el fosfato terciario de potasio, el carbonato de sodio y el carbonato de potasio, ya que tienen ellos mismos una acción tamponadora.

[Compuesto no iónico representado por la fórmula (I)]

El revelador según la presente invención comprende además un compuesto no iónico representado por la siguiente fórmula general (I).
A & # x2212W & # x2003 & # x2003 (I)
donde, A representa un grupo orgánico hidrófobo cuyo log P determinado para A & # x2013H no es menor que 1,5 y W representa un grupo orgánico hidrófilo no iónico cuyo log P determinado para W & # x2013H es menor que 1,0).

Log P se utiliza generalmente como parámetro de propiedad hidrofóbica, que se describe en C. Hansch, A. Leo, & # x201cSubstituent Constants for Correlation Analysis in Chemistry and Biology & # x201d, J. Wile & # x26 Sons, 1979. Log P es determinado de la siguiente manera: la molécula objeto (A & # x2013H y W & # x2013H) se distribuye en un sistema de dos capas de octanol / agua a (25 & # xb0 C.) para obtener una proporción de partición entre la capa de octanol y la capa de agua, una La relación de concentración equilibrada P se calcula a partir de dicha proporción, y el log P se define como un valor logarítmico de dicha relación de concentración equilibrada P.

Log P aquí se usa como un índice que identifica cada uno de los grupos A y W. Log P aquí denota aquellos obtenidos a partir de los datos conocidos por cálculo de acuerdo con el método descrito en A. K. Ghose, et. Alabama. J. Comput. Chem. 9, 80 (1988), sobre la base de la estructura A & # x2013H o W & # x2013H, cuya estructura se obtiene uniendo un átomo de hidrógeno a cada uno de los grupos orgánicos A y W, en aras de la simplicidad.

Específicamente, como estructura química de A y W, los grupos orgánicos A y W suelen ser diferentes entre sí, y cada uno de A y W representa un residuo orgánico monovalente que satisface el valor de log P definido anterior. Más preferiblemente, cada uno de A y W representa un átomo de hidrógeno, un átomo de halógeno, un radical hidrocarbonado que puede tener un sustituyente y / o un enlace insaturado, un grupo heterocíclico, un grupo hidroxilo, un grupo oxi sustituido, un grupo mercapto, un un grupo tio sustituido, un grupo amino, un grupo amino sustituido, un grupo carbonilo sustituido, un grupo carboxilato, un grupo sulfo, un grupo sulfonato, un grupo sulfinilo sustituido, un grupo sulfonilo sustituido, un grupo fosfono, un grupo fosfono sustituido, un grupo grupo fosfonato, grupo fosfonato sustituido, grupo ciano, grupo nitro y similares.

Dicho radical hidrocarbonado que puede tener un sustituyente y / o un enlace insaturado incluye un grupo alquilo, un grupo alquilo sustituido, un grupo arilo, un grupo arilo sustituido, un grupo alquenilo, un grupo alquenilo sustituido, un grupo alquinilo, un grupo alquinilo sustituido y similares.

Dicho grupo alquilo incluye un grupo alquilo de cadena lineal, cadena ramificada o cíclico que tiene átomos de carbono de 1 a 20, ejemplos específicos del mismo son metilo, etilo, propilo, butilo, pentilo, hexilo, heptilo, octilo, nonilo, decilo, undecilo, dodecilo. , tridecilo, hexadecilo, octadecilo, eicosilo, isopropilo, isobutilo, s-butilo, t-butilo, isopentilo, neopentilo, 1-metilbutilo, isohexilo, 2-etilhexilo, 2-metilhexilo, ciclohexilo, ciclopentilo y grupos 2-norbornilo similares . Entre estos, se prefieren un grupo alquilo de cadena lineal que tiene de 1 a 12 átomos de carbono, un grupo alquilo de cadena ramificada que tiene de 3 a 12 átomos de carbono y un grupo alquilo cíclico que tiene de 5 a 10 átomos de carbono.

Dicho grupo alquilo sustituido consiste en un enlace de un grupo sustituyente y un grupo alquileno, y dicho grupo sustituyente incluye un grupo atómico no metálico monovalente distinto de un átomo de hidrógeno. Ejemplos preferidos del grupo sustituyente son átomos de halógeno (& # x2014F, & # x2014Br, & # x2014Cl y & # x2014I), hidroxilo, alcoxi, ariloxi, mercapto, alquiltio, ariltio, alquilditio, arilditio, amino, N-alquilamino, N , N-dialquilamino, N-arilamino, N, N-diarilamino, N-alquil-N-arilamino, aciloxi, carbamoiloxi, N-alquilcarbanoiloxi, N-arilcarbamoiloxi, N, N-dialquilcarbamoiloxi, N, N-diarilcarbamoiloxi, N-diarilcarbamoiloxi -N-arilcarbamoiloxi, alquilsulfoxi, arilsulfoxi, aciltio, aminoacilo, N-alquilacilamino, N-arilacilamino, ureido, N & # x2032-alquilureido, N & # x2032, N & # x2032-dialquilureido, N & # x2032, N & # x2032-dialquilureido, N & # x2032, N & # x2032 # x2032-diarilureido, N & # x2032-alquil-N & # x2032-arilureido, N-alquilureido, N-arilureido, N & # x2032-alquil-N-alquilureido, N & # x2032-alquil-N-arilureido, N & # x2032, N & # x2032-dialquil-N-alquilureido, N & # x2032, N & # x2032-dialquil-N-arilureido, N & # x2032-aril-N-alquilureido, N & # x2032-aril-N & # x2032-arilureido, N & # x2032, N & # x2032-diaril-N-alquilureido, N & # x2032, N & # x2032-diaril-N-arilureido, N & # x2032-alquil-N & # x2032-aril-N -alquilureido, N & # x2032-alquil-N & # x2032-aril-N-arilureido, alcoxicarbonilamino, ariloxicarbonilamino, N-alquil-N-alcoxicarbonilamino, N-alquil-N-ariloxicarbonilamino, N-aril-aril-N-alcoxicarbonilamino, N-aril-aril-N-alcoxicarbonilamino -N-ariloxicarbonilamino, formilo, acilo, grupo carboxilo y grupo de base conjugado del mismo (en adelante carboxilato), alcoxicarbonilo, ariloxicarbonilo, carbamoilo, N-alquilcarbomoilo, N, N-dialquilcarbamoilo, N-arilcarbamoilo, N, N-diarilo, N-alquil-N-arilcarbamoílo, alquilsulfinilo, arilsulfinilo, arilsulfonilo, sulfo (& # x2014SO3H) y grupo de base conjugado del mismo (en adelante, sulfonato), alcoxisulfonilo, ariloxisulfonilo, sulfinamoílo, N-alquilsulfinamoílo, N, N-diarilsulfinamoílo, N-arilsufinamoílo, N, N-diarilsulfinamoílo, N-alquil-N-arilsulfinamoílo, N-alquil-N-arilsulfinamoílo N-alquilsulfamoilo, N, N-dialquilsulfamoilo, N-arilsulfamoilo, N, N-diarilsulfamoilo, N-alquil-N-arilsulfamoilo, N-acilsulfamoilo y grupo de base conjugado de los mismos, N-alquilsulfonilsulfamoilo (& # x2014SO2NHSO2(alquilo)) y un grupo de base conjugado del mismo, N-arilsulfonilsulfamoilo (& # x2014SO2NHSO2(arilo)) y grupo de base conjugado del mismo, N-alquilsulfonilcarbamoílo (& # x2014CONHSO2(alquilo)) y grupo de base conjugado del mismo, N-arilsulfonilcarbamoílo (& # x2014CONHSO2(arilo)) y grupo de base conjugado del mismo, alcoxisililo (& # x2014Si (O-alquilo)3), ariloxisililo (& # x2014Si (O-arilo)3), hidroxisililo (& # x2014Si (OH)3) y un grupo de base conjugado del mismo, fosfono (& # x2014PO3H2) y grupo de base conjugado del mismo (en lo sucesivo denominado fosfonato), dialquilfosfono (& # x2014PO3(alquilo)2), diarilfosfono (& # x2014PO3(arilo)2), alquilarilfosfono (& # x2014PO3(alquilo) (arilo)), monoalquilfosfono (& # x2014PO3H (alquilo)) y grupo de base conjugado del mismo (en lo sucesivo, alquilfosfonato), monoarilfosfono (& # x2014PO3H (arilo)) y el grupo de base conjugado del mismo (en lo sucesivo denominado arilfosfonato), fosfonoxi (& # x2014OPO3H2) y grupo de base conjugado del mismo (en lo sucesivo denominado fosfonatoxi), dialquilfosfonoxi (& # x2014OPO3(alquilo)2) diarilfosfonoxi (& # x2014OPO3(arilo)2), alquilarilfosfonoxi (& # x2014OPO3(alquilo) (arilo)), monoalquilfosfonoxi (& # x2014OPO3H (alquilo)) y grupo de base conjugado del mismo (en lo sucesivo denominado alquilfosfonatoxi), monoarilfosfonoxi (& # x2014OPO3H (arilo)) y grupo de base conjugado del mismo (en lo sucesivo denominado arilfosfonatoxi), grupos ciano, nitro, arilo, alquenilo y alquinilo y similares.

Dicho grupo alquilo en el sustituyente anterior incluye grupos alquilo como se describió anteriormente. Ejemplos específicos del grupo arilo en el sustituyente anterior son fenilo, bifenilo, naftilo, tolilo, xililo, mesitilo, cumenilo, fluorofenilo, clorofenilo, bromofenilo, clorometilfenilo, hidroxifenilo, metoxifenilo, etoxifenilo, fenoxifenilo, acetoxifenilo, metilotiofenilo , grupos dimetilaminofenilo, acetilaminofenilo, carboxifenilo, metoxicarbonilfenilo, etoxicarbonilfenilo, fenoxicarbonilfenilo, N-fenilcarbamoilfenilo, fenilo, nitrofenilo, cianofenilo, sulfofenilo, sulfonatofenilo, fosfonoofenilo y fosfonatofenilo. Los ejemplos específicos del grupo alquenilo son los grupos vinilo, 1-propenilo, 1-butenilo, cinamilo y 2-cloro-1-etenilo y similares. Ejemplos específicos del grupo alquinilo son grupos etinilo, 1-propinilo, 1-butinilo, trimetilsililetinilo y feniletinilo y similares.

Dicho grupo acilo (R 4 CO & # x2014) incluye aquellos en los que R 4 es un átomo de hidrógeno, el grupo alquilo, arilo, alquenilo o alquinilo descrito anteriormente.

El grupo alquileno en el grupo alquilo sustituido incluye un residuo orgánico bivalente que se muestra exceptuando cualquier átomo de hidrógeno en el grupo alquilo mencionado anteriormente que tiene átomos de carbono de 1 a 20, y se prefiere un grupo alquileno de cadena lineal que tiene átomos de carbono de 1 a 12, un grupo alquileno de cadena ramificada que tiene átomos de carbono de 3 a 12 y un grupo alquileno cíclico que tiene átomos de carbono de 5 a 10.

Los ejemplos del alquilo sustituido grupo preferido son clorometilo, bromometilo, 2-cloroetilo, trifluorometilo, metoximetilo, methoxyethyoxyethyl, aliloximetil, fenoximetilo, metiltiometilo, tolylthiomethyl, etilaminoetilo, dietilaminopropilo, morfolinopropilo, acetiloximetilo, benzoiloximetilo, N-cyclohexylcarbamoyloxyethyl, N-phenylcarbamoyloxyethyl, acetilaminoetilo, N-methylbenzoylaminopropyl, 2-oxoetil, 2-oxopropil, carboxipropilo, metoxicarboniletilo, metoxicarbonilmetilo, methoxycarbonybutyl, etoxicarbonilmetilo, butoxicarbonilmetilo, allyloxycarbonylmethyl, benciloxicarbonilmetilo, methoxycarbonylphenylmethyl, trichloromethylcarbonylmethyl, allyloxycarbonylbutyl, chlorophenoxycarbonylmethyl, carbamoilmetilo, N-methylcarbamoylethyl, N, N-dipropylcarbamoylmethyl, N- (metoxifenil) carbamoiletilo, N-metil-N- (sulfofenil) carbamoilmetilo, sulfopropilo, sulfobutilo, sulfonatobutilo, sulfamoilbutilo, N-etilsulfamoilmetilo, N, N-dipropilsulfamoilpropilo, N-tolilsulfamoilpropilo, N- metil-N- (fosfonoofenil) sulfamoiloctilo,

## STR00038 ##
fosfonobutilo, fosfonatohexilo, dietilfosfonobutilo, difenilfosfonopropilo, metilfosfonobutilo, metilfosfonato butilo, tolilfosfonohexilo, tolilfosfonato hexilo, fosfonoxipropilo, fosfonatoxibutilo, bencilo, fenilbentil, 1-metilbencilo grupos propenilmetilo, 2-butenilo, 2-metilalilo, 2-metilpropenilmetilo, 2-propinilo, 2-butinilo y 3-butinilo y similares.

El grupo arilo incluye un grupo monocíclico y un grupo de anillo condensado como los que se forman a partir de la condensación de 1 a 3 anillos de benceno, la condensación de un anillo de benceno y un anillo insaturado de cinco miembros y similares. Ejemplos del grupo arilo son grupos fenilo, naftilo, antrilo, fenantrilo, indenilo, acenaftenilo y fluorenilo y similares. Entre estos, se prefieren los grupos fenilo y naftilo.

Dicho grupo arilo sustituido consiste en la unión de un grupo sustituyente a un grupo arilo. Como grupo sustituyente que se une a un átomo de carbono que es un miembro formador de anillo del grupo arilo, se ejemplifica un grupo atómico no metálico monovalente distinto de un átomo de hidrógeno. Los ejemplos preferidos del grupo sustituyente incluyen los grupos alquilo, los grupos alquilo sustituidos y los grupos sustituyentes en los grupos alquilo sustituidos como se describió anteriormente.Ejemplos específicos de grupos arilo sustituidos preferidos son bifenilo, tolilo, xililo, mesitilo, cumenilo, clorofenilo, bromofenilo, fluorofenilo, clorometilfenilo, trifluorometilfenilo, hidroxifenilo, metoxifenilo, metoxietoxifenilo, aliloxifenilo, fenoxifenilo, etilotiofenilo acetiloxifenil, benzoiloxifenilo, N-cyclohexylcarbamoyloxyphenyl, N-phenylcarbamoyloxyphenyl, acetilaminofenilo, N-methylbenzoylaminophenyl, carboxifenilo, metoxicarbonilfenilo, allyloxycarbonylphenyl, chlorophenoxycarbonylphenyl, carbamoilfenilo, N-metilcarbamoilfenil, N, N-dipropylcarbamoylphenyl, N- (metoxifenil) carbamoilfenilo, N-metil-N - (sulfofenil) carbamoilfenilo, sulfofenilo, sulfonato fenilo, sulfamoilfenilo, N-etilsulfamoilfenilo, N, N-dipropilsulfamoilfenilo, N-tolilsulfamoilfenilo, N-metil-N- (fosfonofenil) sulfamoilfenilo, fosfonoofenilo, diefenofonofonofenilo nofenilo, metilfosfonoofenilo, metilfosfonato fenilo, tolilfosfonoofenilo, tolilfosfonato fenilo, alilfenilo, 1-propenilmetilfenilo, 2-butenilfenilo, 2-metilalilfenilo, 2-metilpropenilfenilo, 2-propinilfenilo, grupos 2-butinilfenilo y similares a 3-butinilo.

El grupo alquenilo incluye los descritos anteriormente. El grupo alquenilo sustituido consiste en reemplazar un átomo de hidrógeno en el grupo alquenilo con un grupo sustituyente que se une al mismo. El grupo sustituyente incluye los grupos que se describen anteriormente como sustituyentes en el grupo alquilo sustituido, y el grupo alquenilo incluye los descritos anteriormente. A continuación se muestran ejemplos específicos del grupo alquenilo sustituido preferido.

El grupo alquinilo incluye los descritos anteriormente. El grupo alquinilo sustituido consiste en reemplazar un átomo de hidrógeno en el grupo alquinilo por un grupo sustituyente que se une al mismo. El grupo sustituyente incluye los grupos que se describen anteriormente como sustituyentes en el grupo alquilo sustituido, y el grupo alquinilo incluye los descritos anteriormente.

El grupo heterocíclico incluye un grupo monovalente que se muestra con la excepción de cualquier átomo de hidrógeno en un heterociclo, y un grupo monovalente que se muestra con la excepción de cualquier átomo de hidrógeno en el grupo monovalente anterior y se une al mismo un grupo sustituyente que se describe anteriormente como un grupo sustituyente en el grupo alquilo sustituido, dicho grupo monovalente se denomina grupo heterocíclico sustituido. A continuación se muestran ejemplos específicos de grupo heterocíclico preferido.

El grupo oxi sustituido (R 5 O & # x2014) incluye aquellos en los que R 5 es un grupo atómico no metálico monovalente distinto de un átomo de hidrógeno. El grupo oxi sustituido preferido incluye los grupos alcoxi, ariloxi, aciloxi, carbamoiloxi, N-alquilcarbamoiloxi, N-arilcarbamoiloxi, N, N-dialquilcarbamoiloxi, N, N-diarilcarbamoiloxi, N-alquil-N-arilcarbamoiloxi, fosfiloxicarbamoiloxi, fosfoxicarbamoiloxi y similares. El grupo alquilo y el grupo arilo en el grupo oxi anterior pueden ser los grupos alquilo, alquilo sustituido, arilo y arilo sustituido antes mencionados.

El grupo acilo (R6CO & # x2014) en dicho grupo aciloxi incluye aquellos en los que R6 es los grupos alquilo, alquilo sustituido, arilo y arilo sustituido antes mencionados. Los grupos sustituyentes preferidos en el grupo anterior son los grupos alcoxi, ariloxi, aciloxi y arilsulfoxi y similares. Los ejemplos específicos de grupo oxi sustituido preferidos son metoxi, etoxi, propiloxi, isopropiloxi, butiloxi, pentiloxi, hexiloxi, dodeciloxi, benciloxi, aliloxi, fenetiloxi, carboxietiloxi, methoxycarbonylethyloxy, ethoxycarbonylethyloxy, metoxietoxi, fenoxietoxi, metoxietoxietoxi, ethoxyethoxyethyoxy, morfolinoetoxi, morfolinoetoxi, morpholinopropyloxy, aliloxietoxietoxi, fenoxi, toliloxi, xililoxi, mesitiloxi, cumeniloxi, metoxifeniloxi, etoxifeniloxi, clorofeniloxi, bromofeniloxi, acetiloxi, benzoiloxi, naftiloxi, fenilsulfoniloxi y los grupos fosfonatooxiloxi y fosfonatoxi.

El grupo tio sustituido (R 7 S & # x2014) incluye aquellos en los que R 7 es un grupo atómico no metálico monovalente distinto de un átomo de hidrógeno. Los grupos tio sustituidos preferidos son los grupos alquiltio, ariltio, alquilditio, arilditio y aciltio y similares. Los grupos alquilo y arilo en el grupo tio anterior incluyen los grupos alquilo, alquilo sustituido, arilo y arilo sustituido antes mencionados, y el grupo acilo (R 6 CO & # x2014) en el grupo aciltio anterior es como se describió anteriormente. Entre estos, se prefieren los grupos alquiltio y ariltio. Ejemplos específicos de grupos tio sustituidos preferidos son grupos metiltio, etiltio, feniltio, etoxietiltio, carboxietiltio y metoxicarboniltio y similares.

El grupo amino sustituido (R 8 NH & # x2014, (R 9) (R 10) N & # x2014) incluye aquellos en los que R 8, R 9, R 10 son un grupo atómico no metálico monovalente distinto de un átomo de hidrógeno. Los ejemplos preferibles del grupo amino sustituido son N-alquilamino, N, N-dialquilamino, N-arilamino, N, N-diarilamino, N-alquil-N-arilamino, acilamino, N-alquilacilamino, N-arilacilamino, ureido, N & # x2032-alquilureido, N & # x2032, N & # x2032-dialquilureido, N & # x2032-arilureido, N & # x2032, N & # x2032-diarilureido, N & # x2032-alquil-N & # x2032-arilureido, N-alquilureido, N-arilureido, N & # x2032-alquil-N-alquilureido, N & # x2032-alquil-N-arilureido, N & # x2032-N & # x2032-dialquil-N-alquilureido, N & # x2032, N & # x2032-dialquil-N-arilureido, N & # x2032-aril-N-alquilureido, N & # x2032-aril-N-arilureido, N & # x2032, N & # x2032-diaril-N-alquilureido, N & # x2032, N & # x2032-diaril-N-arilureido, N & # x2032- alquil-N & # x2032-aril-N-alquilureido, N & # x2032-alquil-N & # x2032-aril-N-arilureido, alcoxicarbonilamino, ariloxicarbonilamino, N-alquil-N-alcoxicarbonilamino, N-alquil-N-ariloxicarbonilamino grupos aril-N-alcoxicarbonilamino y N-aril-N-ariloxicarbonilamino y similares. Los grupos alquilo y arilo en los grupos amino anteriores incluyen los grupos alquilo, alquilo sustituido, arilo y arilo sustituido antes mencionados, y el grupo acilo (R 6 CO & # x2014) en los grupos acilamino, N-alquilacilamino y N-arilacilamino anteriores es como se describió anteriormente. Entre estos, los más preferidos son los grupos N-alquilamino, N, N-dialquilamino, N-arilamino y acilamino y similares. Ejemplos específicos de grupos amino sustituidos preferidos son grupos metilamino, etilamino, dietilamino, morfolino, piperidino, fenilamino, benzoilamino y acetilamino y similares.

El grupo carbonilo sustituido (R11 & # x2014CO & # x2014) incluye aquellos en los que R11 es un grupo atómico no metálico monovalente. Ejemplos del grupo carbonilo sustituido son grupos formilo, acilo, carboxilo, alcoxicarbonilo, ariloxicarbonilo, carbamoilo, N-alquilcarbamoilo, N, N-dialquilcarbamoilo, N-arilcarbamoilo, N, N-diarilcarbamoilo y N-alquil-N-arilcarbamoilo y similares . Los grupos alquilo y arilo en los grupos carbonilo sustituidos anteriormente incluyen los grupos alquilo, alquilo sustituido, arilo y arilo sustituido antes mencionados. Entre estos, los grupos carbonilo sustituidos preferidos son los grupos formilo, acilo, carboxilo, alcoxicarbonilo, ariloxicarbonilo, carbamoílo, N-alquilcarbamoílo, N, N-dialquilcarbamoílo y N-arilcarbamoílo y similares, y los más preferidos son los grupos formilo, acilo, alcoxicarbonilo y ariloxicarbonilo y similares. Ejemplos específicos del grupo carbonilo sustituido son grupos formilo, acetilo, benzoílo, carboxilo, metoxicarbonilo, aliloxicarbonilo, N-metilcarbamoílo, N-fenilcarbamoílo, N, N-dietilcarbamoílo y morfolinocarbonilo y similares.

El grupo sulfinilo sustituido (R 12 & # x2014SO & # x2014) incluye aquellos en los que R 12 es un grupo atómico no metálico monovalente. Ejemplos del grupo sulfinilo sustituido son alquilsulfinilo, arilsulfinilo, sulfinamoílo, N-alquilsulfinamoílo, N, N-dialquilsulfinamoílo, N-arilsulfinamoílo, N, N-diarilsulfinamoílo, N-alquil-N-arilsulfinamoílo y N-alquil-N-arilsulfinamoílo y N-alquil-N-arilsulfinamoílo y similares. Los grupos alquilo y arilo en los grupos sulfinilo sustituidos anteriormente incluyen los grupos alquilo, alquilo sustituido, arilo y arilo sustituido antes mencionados. Entre estos, los grupos sulfinilo sustituidos preferidos son los grupos alquilsulfinilo y arilsulfinilo y similares. Ejemplos específicos de grupos sulfinilo sustituidos son grupos hexilsulfinilo, bencilsulfinilo y tolilsulfinilo y similares.

El grupo sulfonilo sustituido (R 13 & # x2014SO2& # x2014) incluye aquellos en los que R 13 es un grupo atómico no metálico monovalente. Los ejemplos preferibles del grupo sulfonilo sustituido son grupos alquilsulfonilo y arilsulfonilo y similares. Los grupos alquilo y arilo en el grupo sulfonilo sustituido anteriormente incluyen los grupos alquilo, alquilo sustituido, arilo y arilo sustituido antes mencionados. Los ejemplos específicos del grupo sulfonilo sustituido son los grupos butilsulfonilo y clorofenilsulfonilo y similares.

El grupo sulfonato (& # x2014SO3 & # x2212) denota un grupo iónico aniónico de base conjugada de un grupo sulfo (& # x2014SO3H) como se describió anteriormente, y normalmente el grupo sulfonato se usa preferiblemente con un ion contra catiónico. Dicho contraión catiónico incluye los generalmente conocidos, por ejemplo, varios onios tales como amonio, sulfonio, fosfonio, yodonio, azinio y similares, e iones metálicos tales como Na +, K +, Ca 2+, Zn 2+ y similares. .

El grupo carboxilato (& # x2014CO2 & # x2212) denota grupos de iones aniónicos de base conjugada de un grupo carboxilo (& # x2014CO2H) como se describió anteriormente, y normalmente el grupo carboxilato se usa preferiblemente con un ion contra catiónico. Dicho contraión catiónico incluye los generalmente conocidos, por ejemplo, varios onios tales como amonio, sulfonio, fosfonio, yodonio, azinio y similares, e iones metálicos tales como Na +, K +, Ca 2+, Zn 2+ y similares. .

El grupo fosfono sustituido denota un grupo que consiste en reemplazar uno o dos grupos hidroxilo en un grupo fosfono con un grupo oxo orgánico que difiere de un grupo hidroxilo. Los ejemplos preferibles del grupo fosfono sustituido son grupos dialquilfosfono, diarilfosfono, alquilarilfosfono, monoalquilfosfono y monoarilfosfono y similares. Los grupos alquilo y arilo en el grupo fosfono sustituido anterior incluyen los grupos alquilo, alquilo sustituido, arilo y arilo sustituido antes mencionados. Entre estos, se prefieren los grupos dialquilfosfono y diarilfosfono. Ejemplos específicos de estos grupos son grupos dietilfosfono, dibutilfosfono, difenilfosfono y similares.

El grupo fosfonato (& # x2014PO3 2 & # x2212, & # x2014PO3H & # x2212) denota grupos de iones aniónicos de base conjugada derivados de una primera disociación ácida o una segunda disociación ácida de un grupo fosfono (& # x2014PO3H2) como se describió anteriormente. Normalmente, el grupo fosfonato se usa preferiblemente con un ion contra catiónico. Dicho contraión catiónico incluye los generalmente conocidos, por ejemplo, varios onios tales como amonio, sulfonio, fosfonio, yodonio, azinio y similares, e iones metálicos tales como Na +, K +, Ca 2+, Zn 2+ y similares. .

El grupo fosfonato sustituido es un grupo iónico aniónico de base conjugada del grupo fosfono sustituido mencionado anteriormente que consiste en reemplazar un grupo hidroxilo en un grupo fosfono por un grupo oxo orgánico. Ejemplos del grupo fosfonato sustituido son una base conjugada del grupo monoalquilfosfono mencionado anteriormente (& # x2014PO3H (alquilo)) y grupo monoarilfosfono (& # x2014PO3H (arilo)). Normalmente, el grupo fosfonato sustituido se usa preferiblemente con un ion contra catiónico. Dicho contraión catiónico incluye los generalmente conocidos, por ejemplo, varios onios tales como amonio, sulfonio, fosfonio, yodonio, azinio y similares, e iones metálicos tales como Na +, K +, Ca 2+, Zn 2+ y similares. .

En la fórmula (I), la estructura de A es preferiblemente un grupo orgánico que comprende un grupo aromático, y la estructura de W es preferiblemente un grupo orgánico no iónico que comprende un grupo polioxialquileno.

A continuación se muestran ejemplos de A & # x2013H y W & # x2013H.

  • una cadena lineal o ramificada CnorteH2n + 2 (n es un número entero & # x22674) log P de 2,09 en el caso del butano
  • una cadena lineal o ramificada CnorteH2n (n es un número entero & # x22674)
  • una cadena lineal o ramificada CnorteH2n & # x22122 (n es un número entero & # x22674)
    Cualquier átomo de hidrógeno en las estructuras anteriores. & # x2dc se puede reemplazar con el grupo sustituyente descrito anteriormente en los radicales hidrocarbonados.

## STR00043 ##
En lo de arriba & # x2dc, & # x3b1 y & # x3c9 representan cada uno & # x2014OH, & # x2014H, & # x2014SH o & # x2014NH2. Un átomo de hidrógeno en las estructuras anteriores. & # x2dc se puede reemplazar con el grupo sustituyente descrito anteriormente en los radicales hidrocarbonados.

A continuación se muestran ejemplos específicos del compuesto representado por la fórmula (I).

Los ejemplos preferidos del compuesto no iónico de fórmula (I) incluyen el compuesto representado por la siguiente fórmula (I-A) o (I-B).

## STR00066 ##
donde R10 y R20 cada uno representa H o un grupo hidrocarbonado que tiene de 1 a 100 átomos de carbono y nym cada uno representa un número entero que varía de 0 a 100, siempre que nym no sean simultáneamente cero.

Ejemplos de grupo hidrocarbonado como R10 y R20 incluyen grupo alquilo, grupo arilo y grupo aralquilo, y grupos que comprenden el grupo alquilo, grupo arilo y grupo aralquilo con enlace éter, enlace éster o enlace amida.

Ejemplos más preferidos de R10 y R20 incluyen H o un grupo alquilo lineal o ramificado que comprende de 1 a 100 átomos de carbono. Además, cada R10 y R20 puede representar un grupo: R30& # x2014X & # x2014, donde R30 es un grupo alquilo lineal o ramificado que tiene de 1 a 100 átomos de carbono, y X es & # x2014O & # x2014, & # x2014OCO & # x2014, & # x2014COO & # x2014, & # x2014NHCO & # x2014 o & # x2014CONH & # x2014.

Más preferiblemente, cada R10 y R20 representa un átomo de hidrógeno, un grupo alquilo lineal o ramificado que comprende de 1 a 10 átomos de carbono, o un grupo: R30& # x2014X & # x2014, donde R30 es un grupo alquilo lineal o ramificado que tiene de 1 a 10 átomos de carbono, y X es & # x2014O & # x2014, & # x2014OCO & # x2014, & # x2014COO & # x2014, & # x2014NHCO & # x2014 o & # x2014CONH & # x2014.

El compuesto representado por la fórmula (I-A) incluye polioxietilen fenil éter, polioxietilen metilfenil éter, polioxietilen octilfenil éter, polioxietilen nonilfenil éter y similares.

El compuesto representado por la fórmula (I-B) incluye polilxietilen naftil éter, polioxietilen metilnaftil éter, polioxietilen octilnaftil éter, polioxietilen nonilnaftil éter y similares.

En el compuesto representado por la fórmula (IA) o (IB), el número de unidades repetidas en una cadena de polioxietileno es preferiblemente de 3 a 50, y más preferiblemente de 5 a 30. El número de unidades repetidas en una cadena de polioxipropileno es preferiblemente de 0 a 10, y más preferiblemente de 0 a 5. En el compuesto de fórmula (I), un resto polioxietileno y un resto polioxipropileno pueden disponerse en forma de un copolímero aleatorio o de bloques.

El compuesto no iónico de fórmula (I), por ejemplo, el éter aromático no iónico representado por la fórmula (I-A) o (I-B) puede usarse solo o en cualquier combinación de al menos dos de ellos.

Según la presente invención, la cantidad del compuesto no iónico representado por la fórmula (1) en el revelador varía generalmente de 0,1 a 15% en peso, y preferiblemente de 1,0 a 8,0% en peso. Si la cantidad es demasiado pequeña, se degradarán el rendimiento de revelado y la capacidad para disolver los componentes de una capa sensible a la luz. Si la cantidad es demasiado grande, se degradará la durabilidad de impresión de una plancha de impresión.

El revelador de la presente invención puede comprender un agente quelante. Dicho agente quelante incluye polifosfatos como Na2PAG2O7, N / A5PAG3O3, N / A3PAG3O9, N / A2O4P (NaO3P) PO3N / A2 y Calgon (nombre comercial de polimetafosfato de sodio, disponible en Calgon Inc, (EE. UU.)) Ácidos poliaminocarboxílicos y sales de los mismos tales como ácido etilendiaminotetraacético y sus sales de potasio y sodio, ácido dietilentriaminopentaacético y sus sales de potasio y sodio, ácido trietilentetraminohexaacético y sales de potasio y sodio del mismo, ácido hidroxietiletilendiaminotriacético y sus sales de potasio y sodio, ácido nitrilotriacético y sus sales de potasio y sodio, ácido 1,2-diaminociclohexanotetraacético y sus sales de potasio y sodio y ácido 1,3-diamino-2-propanoltetraacético y sus sales de potasio y sodio, y ácidos organofosfónicos, sales de potasio, sodio y amonio de los mismos tales como ácido 2-fosfonobutano tricarboxílico-1,2,4 y sus sales de potasio y sodio, ácido 2-fosfonobutanona tricarboxílico-2,3,4 y sus sales de potasio y sodio, 1 -ácido fosfonoetano tricarboxílico-1,2,2 y sus sales de potasio y sodio, 1- ácido hidroxietano-1,1-difosfónico y sus sales de potasio y sodio y ácido amino tri (metilenfosfónico) y sus sales de potasio y sodio. La cantidad óptima de agente quelante varía en función de la dureza y la cantidad de agua dura utilizada, pero la cantidad del mismo en general oscila entre el 0,01 y el 5% en peso y preferiblemente entre el 0,01 y el 0,5% en peso en el revelador prácticamente utilizado.

El revelador según la presente invención puede comprender además los tensioactivos que se muestran a continuación, que son distintos del compuesto no iónico representado por la fórmula (I).

El tensioactivo incluye un tensioactivo no iónico que incluye polioxietilen alquil éteres tales como polioxietilen lauril éter, polioxietilen cetil éter y polioxietilen estearil éter polioxietilen alquil alquilaril éteres tales como polioxietilen octilfenil éter y polioxietilen octilfenil éter y polioxietilen lauril éter, polioxietilen cetil éter y polioxietilen estearil éter polioxietilen alquil éteres tales como polioxietilen octilfenil éter y polioxietilen octilfenil éter y polioxietilen nonilfenil éter de sorbilatoxilalquilo estereste de polioxietilen nonilfenil sorbuturano, polioxietilen nonilfenil sorbitano estersuran esteres , monoestearato de sorbitán, diestearato de sorbitán, monooleato de sorbitán, sesquioleato de sorbitán y trioleato de sorbitán un tensioactivo aniónico que incluye sales de ácido alquilbencenosulfónico tales como dodecilbencenosulfonato de sodio sales de ácido alquilnaftalenosulfónico tales como butilnaftalensulfonato de sodio y dontilsulfonaulfonato de sodio sulfonato de sodio, dontilsulfonato de sodio al sulfato de sodio. sales de ácido alquilsulfónico de sulfato de sodio como dodecilsulfonato de sodio y sales de sulfosuccinato como dilauril sulfosuccinato de sodio y un tensioactivo anfótero que incluye alquilbetaínas tales como laurilbetaína y estearilbetaína y tensioactivos anfóteros de tipo aminoácido, y se prefieren entre estos tensioactivos aniónicos tales como sales de ácido alquilnaftalenosulfónico y similares.

El tensioactivo se puede usar solo o en cualquier combinación de al menos dos de ellos. La cantidad de tensioactivo en el revelador varía generalmente de 0,1 a 20% en peso en términos de componente eficaz del mismo.

El revelador según la presente invención puede comprender además, según lo requiera la ocasión, otros componentes distintos de los descritos anteriormente. Dichos componentes incluyen ácidos carboxílicos orgánicos tales como ácido benzoico, ácido ftálico, ácido p-etil benzoico, ácido pn-propil benzoico, ácido p-isopropil benzoico, ácido pn-butil benzoico, ácido pt-butil benzoico, p-2-hidroxietil benzoico ácido, ácido decanoico, ácido salicílico, ácido 3-hidroxi-2-naftoico y disolventes orgánicos similares tales como alcohol isopropílico, alcohol bencílico, etil cellosolve, butil cellosolve, fenil cellosolve, propilenglicol, diacetona alcohol y similares un agente reductor a colorante tinte un pigmento un suavizante de agua un agente antiséptico y similares.

Cuando se usa un procesador automático para realizar el procedimiento de revelado en el método de fabricación de placas según la presente invención, el revelador se agota dependiendo de la cantidad de producción de placas y se puede usar un reforzador o revelador de pulpa para restaurar la capacidad de producción del revelador.

El revelador según la presente invención tiene adecuadamente una conductividad de 3 a 30 mS / cm y preferiblemente de 3 a 15 mS / cm a la luz de una velocidad de revelado.

La propiedad de formación de espuma del revelador se puede determinar mediante el siguiente procedimiento: se vierten 30 ml del revelador en una botella de vidrio transparente con un volumen de 100 ml y un diámetro interno de 3 cm, la botella de vidrio se agita hacia arriba y hacia abajo a una velocidad de 3 veces por segundo durante un minuto a una temperatura de 25 ° C, luego se deja reposar la botella de vidrio para determinar el tiempo que tarda en desaparecer la espuma generada (tiempo de desaparición de la espuma). Cuando dicho tiempo es menor, la propiedad espumante del revelador es menor y favorable, es decir, la propiedad antiespumante es mayor.

El revelador de la presente invención tiene preferiblemente la propiedad de formación de espuma más baja y un tiempo de desaparición de la espuma de no más de 5 minutos que se determina mediante el procedimiento anterior. Por tanto, el revelador de la presente invención no causa ningún obstáculo debido a la formación de espuma durante el procedimiento de procesamiento del revelado.

El revelador de la presente invención puede ser incoloro o preferiblemente tan coloreado como se reconozca visualmente para evitar un reconocimiento falso entre el revelador y el agua.

El revelador de la presente invención tiene generalmente una viscosidad de 1,0 a 10,0 cp en forma de solución diluida a una temperatura de 25 ° C de modo que el procedimiento de procesamiento de revelado se puede realizar sin problemas.

La presente invención se explicará con más detalle con referencia a los siguientes ejemplos de trabajo no limitativos y los efectos prácticamente alcanzados por la presente invención también se discutirán en detalle en comparación con los ejemplos comparativos.

[Preparación de sustratos]

[Preparación del sustrato n. ° 1: sustrato de aluminio anodizado]

Una placa de aluminio (grado 1S) que tenía un espesor de 0,30 mm se granuló en la superficie con un cepillo de nailon (No. 8) y una suspensión acuosa de piedra pómez de malla 800 y luego se lavó suficientemente con agua. Luego se atacó la placa de aluminio sumergiéndola en una solución acuosa al 10% de hidróxido de sodio a 70 ° C durante 60 segundos, seguido de un lavado sucesivo con agua corriente, una solución de ácido nítrico al 20% para neutralización y agua. A continuación, la superficie de la placa de aluminio se endureció electrolíticamente en una solución acuosa al 1% de ácido nítrico mediante la aplicación de una corriente alterna en forma de onda sinusoidal al voltaje aplicado (Va) de 12,7 V. La carga eléctrica se fijó en 300 C / dm 2 en el lado del ánodo. En esta etapa, se midió la rugosidad de la superficie de la placa de aluminio y se encontró que era de 0,45 & # x3bcm en términos de unidad Ra. Posteriormente, la placa de aluminio se sumergió en una solución acuosa al 30% de ácido sulfúrico a 55ºC durante 2 minutos para desmotar de la placa. A continuación, la placa de aluminio se anodizó en una solución acuosa al 20% de ácido sulfúrico a 33 ° C durante 50 segundos a una densidad de corriente de 5 A / dm2, sirviendo la superficie granulada de la placa de aluminio como cátodo. El resultado fue que la capa anodizada con un espesor de 2,7 g / m 2 se depositó sobre el ánodo. La placa de aluminio así preparada se utilizó como sustrato No. 1.

[Preparación del sustrato No. 2]

Se revistió una composición líquida para la capa inferior N ° 1 con la siguiente formulación sobre el sustrato N ° 1 para el tratamiento superficial de modo que la cantidad de fósforo (P) en la capa revestida fue de aproximadamente 0,05 g / m 2. La capa revestida se secó a 100ºC durante un minuto, de modo que se obtuvo un sustrato nº 2.

& # x3c Composición líquida para la capa de base n. ° 1 & # x3e

La composición líquida para la capa inferior N ° 2 así preparada se revistió sobre el sustrato N ° 1 para el tratamiento superficial de modo que la cantidad de silicio (Si) en la capa revestida fuera de aproximadamente 0,001 g / m 2. La capa revestida se secó a 100ºC durante un minuto, de modo que se obtuvo un sustrato nº 3.

& # x3c Composición líquida para la capa de base n. ° 2 & # x3e

Se agitó una mezcla de los siguientes componentes. Aproximadamente cinco minutos después, se encontró una reacción exotérmica. Después de que se llevó a cabo la reacción durante 60 minutos, el producto de reacción se colocó en otro recipiente y se añadieron más 30.000 partes en peso de metanol al producto de reacción. Por tanto, se preparó una composición líquida para la capa de base n ° 2.

Los siguientes componentes se mezclaron para preparar un líquido de revestimiento para la formación de una capa sensible a la luz.

Cada líquido de recubrimiento para la capa sensible a la luz se recubrió sobre el sustrato descrito anteriormente de modo que la cantidad de recubrimiento fue de 1,5 g / m 2 en base seca y se secó a 100 ° C durante un minuto, por lo que se aplicó una capa sensible a la luz. proporcionado en el sustrato.

Posteriormente, se revistió una solución acuosa al 3% de alcohol polivinílico con un grado de saponificación del 98% en moles y un grado de polimerización de 500 sobre la capa sensible a la luz de modo que la cantidad de revestimiento fuera de 2,5 g / m 2 en base seca y se secó a 120 ° C durante 3 minutos. Por tanto, se obtuvieron placas de PS N ° 1 a N ° 9.

& # x3cFormulación para recubrimiento líquido para capa sensible a la luz & # x3e

A continuación se muestran ejemplos específicos del compuesto (A) que contiene enlaces etilénicamente insaturados mencionados anteriormente, aglutinante de resina de poliuretano (B), sensibilizador (C), iniciador de fotopolimerización (D) y aditivo (S):

## STR00069 ## ## STR00070 ##
[Preparación de desarrolladores]

Se prepararon los Reveladores Nº 1 a Nº 35 y los Reveladores Comparativos Nº 1 & # x2032 a 5 & # x2032 que tenían cada uno la siguiente composición (véanse las tablas 6 a 8).

A continuación se muestran ejemplos específicos del agente quelante (Z) y el aditivo (Q) mencionados anteriormente utilizados:

Las tablas 6 a 8 muestran las composiciones de los reveladores empleados en los ejemplos y ejemplos comparativos, y los valores de pH de los reveladores resultantes y la conductividad de los mismos, que se midió a 25 ° C usando un conductímetro disponible comercialmente. (marca comercial) fabricada por Toa Denpa Kogyo Corporation.

En lo anterior, & # x201c1K silicato de potasio & # x201d, & # x201c2K silicato de potasio & # x201d, & # x201cA silicato de potasio & # x201d y & # x201c silicato de sodio No. 3 & # x201d son nombres comerciales de los productos fabricados por Nippon Chemical Industrial Co. , Ltd. Los reveladores comparativos No. 4 y No. 5 no contienen ningún compuesto no iónico representado por la fórmula (1).

En cada uno de los Ejemplos 1 a 52 y los Ejemplos comparativos 1 a 5, se emplearon en combinación una placa de PS seleccionada de la Tabla 4 y un revelador de las Tablas 6 a 8. La combinación de la placa PS y el revelador se muestra en las siguientes Tablas 9 y 10. Las placas PS se sometieron a exposición a la luz y revelado en las siguientes condiciones para realizar pruebas de evaluación. Las pruebas de evaluación se llevaron a cabo como sigue.

(1) Evaluación del desempeño del desarrollo

Cada placa de PS no se sometió a exposición a la luz antes del revelado. Una vez completado el revelado, se inspeccionó visualmente el color de la plancha de impresión obtenida. El color de la capa sensible a la luz se reconoció cuando quedaba el residuo. Los resultados se muestran en las Tablas 9 y 10.

(2) Evaluación de la durabilidad de la impresión y la formación de espumas después del intermedio

Se emplearon dos tipos de fuentes de luz para la exposición a la luz de las placas de PS. Láser FD & # x2022YAG (& # x201cPlateJet 4 & # x201d (marca comercial), fabricado por Cymbolic Sciences, Inc.) con una longitud de onda de 532 nm y una intensidad de 100 mW y LD violeta con una longitud de onda de 405 nm y una intensidad de 30 mW que emiten desde una unidad de exposición de tambor interno a escala de laboratorio. Con una exposición de 100 & # x3bc / cm 2 en las condiciones de exposición estándar, una imagen sólida y las imágenes de puntos (con un porcentaje de puntos aumentado de 1 a 99% en 1%) se sometieron a escaneo utilizando las fuentes de luz mencionadas anteriormente en una densidad de 4000 dpi y 175 rayos / pulgada.

Una vez completada la exposición a la luz, cada placa de PS se sometió a revelado en las condiciones estándar utilizando un procesador automático disponible comercialmente (& # x201cLP-850P2 & # x201d (nombre comercial), fabricado por Fuji Photo Film Co., Ltd.) equipado con el revelador como se indica en las Tablas 6 a 8 y una goma de acabado (& # x201cFP-2W & # x201d (nombre comercial), fabricada por Fuji Photo Film Co., Ltd.), mediante lo cual se obtuvo una placa de impresión litográfica. Cada placa de PS se precalentó después de la exposición a la luz de modo que la temperatura de la superficie de la placa alcanzó los 100ºC y la placa se sumergió en el revelador durante 15 segundos.

Con la plancha de impresión obtenida colocada en una prensa litográfica & # x201cR201 & # x201d (nombre comercial), fabricada por MAN Roland, la operación de impresión se llevó a cabo utilizando una tinta de impresión (& # x201cGEOS G black (N) & # x201d (nombre comercial) , fabricado por Dainippon Ink & # x26 Chemicals, Incorporated). Para evaluar la durabilidad de la impresión, se examinó la aparición de pérdida de puntos en la imagen de puntos con un porcentaje de puntos del 3%. La durabilidad de la impresión se expresó por el número máximo de hojas impresas antes de que se produjera la pérdida de puntos. Los resultados se muestran en las Tablas 9 y 10.

La escoria después del intermedio se examinó mediante el siguiente método. La plancha de PS obtenida se colocó en una prensa litográfica & # x201cDAIYA IF2 & # x201d (nombre comercial), fabricada por Mitsubishi Heavy Industries, Ltd., que estaba equipada con una tinta de impresión (& # x201cGEOS G magenta (S) & # x201d ( nombre comercial), fabricado por Dainippon Ink & # x26 Chemicals, Incorporated) para iniciar la operación de impresión. Se detuvo la operación de impresión y se dejó reposar la prensa durante una hora con la tinta de impresión unida a la placa de impresión. Cuando se volvió a poner en marcha la prensa una hora más tarde, se comprobó visualmente la presencia de espuma en las áreas sin imagen de material impreso. Los resultados se muestran en las Tablas 9 y 10.

(3) Evaluación de lodos en revelador

Una vez completado el revelado de la plancha de impresión mencionada anteriormente (20 m 2) utilizando el revelador correspondiente (1 litro), se dejó reposar el revelador durante un mes. Se inspeccionó la presencia de cualquier lodo en el revelador. Los resultados también se muestran en las Tablas 9 y 10.

Como se desprende de las Tablas 9 y 10, los reveladores de acuerdo con la presente invención exhiben un excelente rendimiento de revelado e imparten una durabilidad de impresión favorable a una plancha de impresión, sin que las áreas sin imagen se acumulen incluso después del intermedio. Además, los reveladores de la presente invención no producen lodos en el revelador durante un largo período de tiempo, exhibiendo así un rendimiento de funcionamiento estable.

(4) Evaluación del comportamiento de desarrollo

De acuerdo con los métodos de inspección mencionados anteriormente, el comportamiento de desarrollo se examinó en el Ejemplo 53 y en los Ejemplos comparativos 1 a 5. Los resultados se muestran en la Tabla 11.

Los reveladores para planchas de PS y el método para fabricar la plancha de impresión utilizando los reveladores mencionados anteriormente de acuerdo con la presente invención son ventajosos porque se puede evitar la formación de espuma durante la impresión y se puede mejorar la durabilidad de la impresión sin perjudicar el rendimiento de formación de imágenes en el PS. platos. Los compuestos no solubles en los reveladores usados ​​hasta ahora pueden disolverse o dispersarse de manera estable en los reveladores de la presente invención durante un largo período de tiempo, de modo que el rendimiento de funcionamiento del revelador pueda ser excelente y estabilizado.


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